光学基材叠层和多层整体卷材的制造方法技术

公开了光学基材叠层和多层整体卷材的制造方法。所述光学基材叠层包括：第一光学基材；第二光学基材；和在所述光学基材之间的掩膜，该掩膜包括至少一层具有许多三维特征的释放层，每个三维特征的平均高度超过50微米；借助所述许多三维特征，所述掩模在所述第一光学基材和第二光学基材之间形成间隙。

【技术实现步骤摘要】
本申请是2009年6月26日提交的国际申请号为PCT/US2009/003844、国家申请号为200980123779.3、专利技术名称为“具有释放表面的保护膜”的中国专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请要求2008年6月27日提交的美国临时专利申请第61/133，356号的优先权。
技术介绍
本专利技术涉及用于在制造、贮藏、运输或使用中保护基材表面的膜。本专利技术还涉及制备所述膜的方法。表面保护膜也被称为掩膜，通常用于提供物理屏障，以防基材发生破坏、污染、刻划、刮擦或其它损坏。掩膜可用于例如在基材使用前的制造、运输或贮藏中提供这些保护。这些膜在许多的应用中可用作表面的保护性覆盖层，特别是用于保护较光滑的表面，例如丙烯酸类、聚碳酸酯类、玻璃、抛光或涂漆的金属和上釉的陶瓷表面。例如用于电视机、监控器和其它显示器的光学基材需要既保护表面又可在去除时不在表面上造成损坏、留下粘合剂残余物或其它污染物或微粒的掩膜。通常，掩膜包括电晕处理的膜或者涂覆粘合剂的纸或膜。电晕处理的膜是经静电放电处理的膜，以氧化膜的表面。该氧化作用提高膜的表面张力和对极性表面的吸引力。这样的电晕处理的膜通常为光滑的膜，依赖于非常精确的电晕处理以促进粘合。由于没有压纹，电晕处理的膜通常容易起皱，使得难以使用和操作这些膜。另一个缺点是促进电晕处理效果的粘合作用随时间而消散。一般来说，常规掩膜较难使用和操作。因为掩膜设计成与表面粘合，它们也可在掩膜绕在辊上或粘合表面接触掩蔽膜的一部分时与其自身发生粘合。这种所谓的结块可导致加工困难，包括延迟和浪费材料。为降低自身粘合的倾向，可用弱粘合剂涂覆掩膜。掩膜上的弱粘合剂可防止膜在辊上与其自身发生紧密粘合，然而，弱粘合剂也可能无法提供与需要保护表面的充分粘合。其它膜在粘合表面的反面可配有一个不光滑的表面，常称为单侧粗糙(“0SM”)掩膜。粗糙表面的不规则性不能为粘合提供良好表面，为掩膜提供抗结块性质。需要自身粘合低，但能与基材充分粘合以提供合适保护作用的掩膜。还需要具有缓冲作用并便于操作平坦基材的掩膜。在其它应用中，可能需要采用不粘合表面，但与基材交错以提供物理分离的材料。这样的应用常用于制造操作中，例如，其中光学级玻璃或塑料基材钉在一起。在这样的应用中，纸或其它材料用于与基材交错放置以防损坏。交错片材也用于叠置易碎和刻划敏感基材之间，以在向最终用户的运输期间提供极光滑光学基材之间的分离作用。相应地，也需要用于保护基材表面的低成本非粘附材料。
技术实现思路
在一个实施方式中，掩膜包含具有至少一个三维释放表面的聚合物膜网状物。在一个实施方式中，所述三维释放表面包含与所述膜形成一体的多个突出凸起。在一个实施方式中，所述突出凸起包含多个间隔的肋条(rib)。在一个实施方式中，所述三维释放表面包含聚合物小块(nub)。在一个实施方式中，所述掩膜包含与三维释放表面相反的粘合层。参考附图和权利要求书，进一步阅读说明书后不难理解这些和其它实施方式。【附图说明】图1是显示与基材粘合并包含释放层和粘合层的掩膜的横截面图，其中所述释放层包含具有多个有孔凸起的三维释放表面。图1A是显示与基材粘合并包含释放层和粘合层的掩膜的横截面图，其中所述释放层包含具有长斜方形压纹图案的三维释放表面。图1B是显示与基材粘合并包含释放层和粘合层的掩膜的横截面图，其中所述释放层包含多平面膜(multiplanar film)。图2是具有第一释放层、芯层和第二释放层的掩膜的横截面图，其中各释放层包含具有多个无孔凸起的三维释放表面。图3是包含具有两个释放表面的单层膜的掩膜的横截面图。图4是具有粘合层和释放层的掩蔽膜的透视图，其中释放层具有包含间隔的纵向肋条的三维释放表面。图4A是除不含任何粘合层外与图4实施方式相似的掩膜的横截面图。图5是具有粘合层和释放层的掩膜的透视图，其中释放层具有包含聚合物珠的三维表面。图5A是图5掩膜的横截面图，沿图5中的线和箭头A-A所示。图6是具有两个三维释放表面的膜的另一个实施方式的横截面图。图7是真空层压工艺的示意图。图8是可用于制备某些实施方式的压纹和/或真空成型工艺的示意图。专利技术详述美国专利第4，395，760、5，100，709、5，693，405、6，040，046、6，326，081 和6，387，484号描述了掩膜，这些专利均通过引用纳入本文。除非上下文有明确不同的描述，本专利技术中所用的单数形式“一个”、“一种”和“该”包括复数形式。因此，例如，述及“一层”也包括多层。本文用来描述网状物或膜的“层压物”或“复合物”是同义词。二者均指包含至少两个结合的网状物或膜以形成多层整体网状物的网状结构。可通过层压过程对所述网状物进行共挤出或连接，包括胶粘层压、热层压、加压层压和其组合，以及本领域技术人员已知的其它层压技术。用于形成层压物的粘合剂可为大量市售压敏粘合剂中的任何一种，包括水基粘合剂如但不限于丙烯酸粘合剂，例如，可与增粘剂联用的乙酸乙烯酯/丙烯酸乙基己酯共聚物。其它粘合剂包括压敏热熔性粘合剂或双面胶带。本文中所用的术语“聚合物”包括均聚物、共聚物如嵌段共聚物、接枝共聚物、抗冲共聚物、无规共聚物和交替共聚物、三元共聚物等，及其掺混物和修饰物。此外，除非另外进行具体限制，术语“聚合物”包括所述材料所有可能的立体化学构型，如全同、间同和无规构型。对具有极平坦表面的基材，如玻璃窗格、用于监控器、电视机或其它显示器的光学材料片或其它相似基材进行操作是困难的。在设法将一片这样的基材从另一片上去除时，所述片材容易粘合在一起。所述片材可粘合在一起是因为空气可能无法存在于或流过片材之间。缺乏空气导致片材之间出现真空，有时第二个片材其实会与第一个片材一起提起。然而，第二个片材仅可提起一小段距离，之后真空释放，第二个片材就会下落。该下落可对第二个片材造成不能修补的损害。为该操作困难提供的解决方法是掩膜的各实施方式包含具有三维释放表面的释放层。在一些实施方式中，所述掩膜包含粘合层和具有三维释放表面的释放层。在其它实施方式中，所述掩膜包含位于膜相反两侧的两个三维释放表面。所述掩膜可包含单层或多层。中间层可插入粘合层和释放层之间或两个释放层之间。其它实施方式包括包含两个释放表面的掩膜。这样的掩膜还可在释放层之间包含中间层。各释放层均具有三维释放表面。包含两个释放表面的实施方式有利于用于取代光学基材叠层中的纸元件。通过在叠置片材之间制造间隙允许基材片之间存在空气空间，使在其间具有实施例所述掩膜的基材免于彼此粘合。所述释放层的实施方式一般包含膜。本文中所用的“膜”指包含聚合物的薄片或网状物。可通过例如，在挤出铸塑或吹塑过程中挤出熔融热塑性聚合物生产膜。所述聚合物可以在辊之间进一步加工并冷却以形成网状物。膜可为例如，单层膜、共挤出膜和复合膜。可通过共挤出过程或将一个或多个膜结合在一起生产复合膜。在维度方面,膜可描述为具有轴向、横向和z向。轴向定义为膜通过制造过程的方向。通常将膜制造成长度远大于宽度的长片材或网状物，在这样的情况中，轴向通常为片材的长度方向(也称为X向)。与轴向垂直的是片材的横向(也称为y向或宽度)。在Z向上测量膜的厚度。三维成型膜的z向包括成型膜的任何三维特征的高度和膜的厚度。三维成型膜是经加工在膜的至少一个表面上形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学基材叠层，它包括：第一光学基材；第二光学基材；和在所述光学基材之间的掩膜，该掩膜包括至少一层具有许多三维特征的释放层，每个三维特征的平均高度超过50微米；借助所述许多三维特征，所述掩模在所述第一光学基材和第二光学基材之间形成间隙。

【技术特征摘要】
2008.06.27 US 61/133,3561.一种光学基材叠层，它包括: 第一光学基材； 第二光学基材；和 在所述光学基材之间的掩膜，该掩膜包括至少一层具有许多三维特征的释放层，每个三维特征的平均高度超过50微米； 借助所述许多三维特征，所述掩模在所述第一光学基材和第二光学基材之间形成间隙。2.如权利要求1所述的光学基材叠层，其特征在于所述光学基材选自玻璃、丙烯酸酯、环烯烃聚合物膜和三乙酰基纤维素膜。3.如权利要求1所述的光学基材叠层，其特征在于所述光学基材具有光滑表面。4.如权利要求1-3中任一项所述的光学基材叠层，其特征在于所述三维特征是整体伸出释放层的凸起。5.如权利 要求1-3中任一项所述的光学基材叠层，其特征在于所述凸起选自棱状、圆锥或珠。6.如权利要求1-3中任一项所述的光学基材叠层,其特征在于所述凸起包括空气空间，该空气空间在所述第一基材和第二基材之间形成间隙。7.如权利要求1所述的光学基材叠层，其特征在于所述掩模还包括粘合层。8.—种制造多层整体卷材的方法，它包括: 将熔融聚合物铸塑到或者将熔融热塑性膜共挤出到具有突出肋条或线状物的成型鼓上，形成包括两层，一层是释放层、一层是粘合层，的挤出膜； 所述释放层与成型结构即带纹理的铸塑鼓接触，所述粘合层无粘合剂涂层； 所述挤出膜具有平均高度超过50微米的棱，该棱对应成型鼓的突出肋条或线状物。9.一种制造多层整体卷材的方法，它包括: 将熔融热塑性膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·C·帕特尔，B·B·德塞，G·M·巴拉克霍夫，P·E·托马斯，
申请(专利权)人：屈德加薄膜产品股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US