光学基材叠层和多层整体卷材的制造方法技术

公开了光学基材叠层和多层整体卷材的制造方法。所述光学基材叠层包括：第一光学基材；第二光学基材；和在所述光学基材之间的掩膜，该掩膜包括至少一层具有许多三维特征的释放层，每个三维特征的平均高度超过50微米；借助所述许多三维特征，所述掩模在所述第一光学基材和第二光学基材之间形成间隙。

【技术实现步骤摘要】
本申请是2009年6月26日提交的国际申请号为PCT/US2009/003844、国家申请号为200980123779.3、专利技术名称为“具有释放表面的保护膜”的中国专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请要求2008年6月27日提交的美国临时专利申请第61/133，356号的优先权。
技术介绍
本专利技术涉及用于在制造、贮藏、运输或使用中保护基材表面的膜。本专利技术还涉及制备所述膜的方法。表面保护膜也被称为掩膜，通常用于提供物理屏障，以防基材发生破坏、污染、刻划、刮擦或其它损坏。掩膜可用于例如在基材使用前的制造、运输或贮藏中提供这些保护。这些膜在许多的应用中可用作表面的保护性覆盖层，特别是用于保护较光滑的表面，例如丙烯酸类、聚碳酸酯类、玻璃、抛光或涂漆的金属和上釉的陶瓷表面。例如用于电视机、监控器和其它显示器的光学基材需要既保护表面又可在去除时不在表面上造成损坏、留下粘合剂残余物或其它污染物或微粒的掩膜。通常，掩膜包括电晕处理的膜或者涂覆粘合剂的纸或膜。电晕处理的膜是经静电放电处理的膜，以氧化膜的表面。该氧化作用提高膜的表面张力和对极性表面的吸引力。这样的电晕处理的膜通常为光滑本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学基材叠层，它包括：第一光学基材；第二光学基材；和在所述光学基材之间的掩膜，该掩膜包括至少一层具有许多三维特征的释放层，每个三维特征的平均高度超过50微米；借助所述许多三维特征，所述掩模在所述第一光学基材和第二光学基材之间形成间隙。

【技术特征摘要】
2008.06.27 US 61/133,3561.一种光学基材叠层，它包括: 第一光学基材； 第二光学基材；和 在所述光学基材之间的掩膜，该掩膜包括至少一层具有许多三维特征的释放层，每个三维特征的平均高度超过50微米； 借助所述许多三维特征，所述掩模在所述第一光学基材和第二光学基材之间形成间隙。2.如权利要求1所述的光学基材叠层，其特征在于所述光学基材选自玻璃、丙烯酸酯、环烯烃聚合物膜和三乙酰基纤维素膜。3.如权利要求1所述的光学基材叠层，其特征在于所述光学基材具有光滑表面。4.如权利要求1-3中任一项所述的光学基材叠层，其特征在于所述三维特征是整体伸出释放层的凸起。5.如权利 要求1-3中任一项所述的光学基材叠层，其特征在于所述凸起选自棱状、圆锥或珠。6.如权利要求1-3中任一项所述的光学基材叠层,其特征在于所述凸起包括空气空间，该空气空间在所述第一基材和第二基材之间形成间隙。7.如权利要求1所述的光学基材叠层，其特征在于所述掩模还包括粘合层。8.—种制造多层整体卷材的方法，它包括: 将熔融聚合物铸塑到或者将熔融热塑性膜共挤出到具有突出肋条或线状物的成型鼓上，形成包括两层，一层是释放层、一层是粘合层，的挤出膜； 所述释放层与成型结构即带纹理的铸塑鼓接触，所述粘合层无粘合剂涂层； 所述挤出膜具有平均高度超过50微米的棱，该棱对应成型鼓的突出肋条或线状物。9.一种制造多层整体卷材的方法，它包括: 将熔融热塑性膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·C·帕特尔，B·B·德塞，G·M·巴拉克霍夫，P·E·托马斯，
申请(专利权)人：屈德加薄膜产品股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US