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公开了光学基材叠层和多层整体卷材的制造方法。所述光学基材叠层包括：第一光学基材；第二光学基材；和在所述光学基材之间的掩膜，该掩膜包括至少一层具有许多三维特征的释放层，每个三维特征的平均高度超过50微米；借助所述许多三维特征，所述掩模在所述第...
该专利属于屈德加薄膜产品股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过屈德加薄膜产品股份有限公司授权不得商用。

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