一种发热结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种发热结构，该结构常用于烘烤炉内，其包括电阻发热片，电阻发热片设有电源连接端，所述电阻发热片上下表面均覆盖有硅晶片，该电阻发热片产生的热量通过硅晶片向外界传递；上述发热结构的硅晶片不但能够将热量均匀地往外输送，还同时产生远红外，以此降低了发热结构的能耗。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
一种发热结构
本技术涉及一种发热结构，该结构常用于烘烤炉内。
技术介绍
烘烤炉是一种常用的烘烤装置，其内部安装有多个发热器件(如发热管等)，通过发热器件产生热量来烘烤玻璃等产品。但是现有的发热器件发热不均匀，使得产品各处的烘烤质量不一，为使用者带来了较大的困扰。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种发热结构，该发热结构发热均匀，能耗少。为解决上述问题，本技术所采用的技术方案如下:一种发热结构，包括电阻发热片，电阻发热片设有电源连接端，所述电阻发热片上下表面均覆盖有硅晶片，该电阻发热片产生的热量通过硅晶片向外界传递。优选的，所述电阻发热片至少为两块，各电阻发热片并排布置；所述硅晶片为两块，一块硅晶片覆盖在所有电阻发热片的上表面，另一块硅晶片覆盖在所有电阻发热片的下表面，以使各电阻发热片连接为一整体。相比现有技术，本技术的有益效果在于:发热均匀，能耗少；因为本技术的电阻发热片上下表面均覆盖有硅晶片，电阻发热片产生的热量通过硅晶片向外界传递，这个过程中，硅晶片不但将热量均匀地往外输送，还同时产生远红外，以此降低发热结构的能耗。特别地，由于发热结构所要求的发热面积一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发热结构，包括电阻发热片，电阻发热片设有电源连接端，其特征在于：所述电阻发热片上下表面均覆盖有硅晶片，该电阻发热片产生的热量通过硅晶片向外界传递。

【技术特征摘要】
1.一种发热结构，包括电阻发热片，电阻发热片设有电源连接端，其特征在于:所述电阻发热片上下表面均覆盖有硅晶片，该电阻发热片产生的热量通过硅晶片向外界传递。2.根据权利要求1所述的发热结构，...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭富国，刘光映，
申请(专利权)人：深圳市三兴精密工业设备有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44