一种光学防伪单元制造技术

本发明专利技术涉及一种光学防伪单元，包括：基材，位于所述基材上面的微缩图案阵列层，位于所述微缩图案阵列层上面的微透镜阵列层。本发明专利技术涉及的光学防伪单元避免了基材双面制作造成的操作困难，简化了生产工艺，生产效率大大提高，成本大幅度降低，同时解决了基材厚度及材质受限的问题，使产品应用范围更广。本发明专利技术涉及的光学防伪单元通过水性表面涂层提高光学防伪单元的清晰度和透明度，使目视效果更生动，图文显示美感更强。

【技术实现步骤摘要】
一种光学防伪单元
本专利技术涉及光学防伪领域，具体涉及一种光学防伪单元。
技术介绍
用于光学防伪领域的微透镜阵列防伪技术因其难以防制、美观、变化多样、体积小、重量轻、便于集成化、阵列化等优点已成为新的科研发展方向。CN101563640、CN101443692、CN101120139、CN101346244、US5712731、US0034082、US476556、US4892336、CN1271106、CN1552589等专利文献中公开了在基材的两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的防伪元件，其中微图文阵列位于微透镜阵列的焦平面附近，通过微透镜阵列对微图文阵列的莫尔放大作用显示具有一定景深或呈现浮或沉的动态效果的图案。 这种结构的防伪技术因需要在基材两个表面依次进行加工，其缺陷如下:(I)基材两个表面需分别进行表面处理和涂布，而且防伪元件需要底层保护层，造成工艺流程复杂，操作困难，制造材料费用高，生产效率低；(2)基材两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的防伪元件，要求基材必须是透明的，而且要达到光学级要求，透光率大于99%，造成选材受限，成本升高，且影响产品的应用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学防伪单元，包括：基材；位于所述基材上面的微缩图案阵列层；位于所述微缩图案阵列层上面的微透镜阵列层。

【技术特征摘要】
1.一种光学防伪单兀，包括:基材；位于所述基材上面的微缩图案阵列层；位于所述微缩图案阵列层上面的微透镜阵列层。2.根据权利要求1所述的光学防伪单元，其特征在于:所述微缩图案阵列层与所述微透镜阵列层之间设有第一功能层；所述第一功能层为金属和/或非金属及其氧化物。3.根据权利要求2所述的光学防伪单元，其特征在于:所述微透镜阵列层上面设有第二功能层；所述第二功能层为水性树脂体系形成的透明涂层。4.根据权利要求3所述的光学防伪单元，其特征在于:所述微缩图案阵列层为紫外光固化材料；所述紫外光固化材料为丙烯酸酯树脂体系。5.根据权利要求4所述的光学防伪单元，其特征在于:所述丙烯酸酯树脂体系选自环氧丙烯酸酯树脂体系、聚氨酯丙烯酸酯树脂体系、聚酯丙烯酸酯树脂体系或氨基丙烯酸酯树脂体系中的一种或几种任意比例的混合； 所述微透镜阵列层为紫外光固化材料；所述紫外光固化材料为丙烯酸酯树脂体系；所述丙烯酸酯树脂体系选自环氧丙烯酸酯树脂体系、聚氨酯丙烯酸酯树脂体系、聚酯丙烯酸酯树脂体系或氨基丙烯酸酯树脂体系中的一种或几种任意比例的混合。6.根据权利要求4所述的光学防伪单元，其特征在于:所述水性树脂体系选自水溶型树脂体系...

【专利技术属性】
技术研发人员：武文辉，史力国，
申请(专利权)人：上海茂璞实业发展有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31