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本发明涉及一种光学防伪单元，包括：基材，位于所述基材上面的微缩图案阵列层，位于所述微缩图案阵列层上面的微透镜阵列层。本发明涉及的光学防伪单元避免了基材双面制作造成的操作困难，简化了生产工艺，生产效率大大提高，成本大幅度降低，同时解决了基材厚...
该专利属于上海茂璞实业发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海茂璞实业发展有限公司授权不得商用。

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