彩色滤光片的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种彩色滤光片的制造方法，包括：提供一基板；在所述基板上形成黑矩阵层；在形成有黑矩阵层的基板上，通过一掩膜形成至少一第一滤光图案；在形成有所述黑矩阵以及所述第一滤光图案的基板上，通过所述掩膜形成至少一第二滤光图案；在形成有所述黑矩阵、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的基板上，通过所述掩膜形成至少一第三滤光图案；其中，所述掩膜具有与所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案分别对应的不同的透光光谱。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，特别是涉及一种共用同一掩膜实现具有红(R)，绿(G)，蓝(B)三原色的滤光层的制造方法。
技术介绍
液晶显示装置已被广泛应用于人类的生活和工作中，其中液晶显示装置的液晶面板攸关到液晶显示装置的显示效果，包括视角、明暗程度以及颜色等。主流的薄膜晶体管液晶装置(TFT-1XD)，其生产流程主要是通过曝光和掩模实现，由于液晶装置属于被动发光显示模式，其基板包括彩色滤光片和薄膜晶体管阵列两个部分，虽然目前发展有一种彩色滤光片阵列基板(Color film On Array, C0A)设计,但由于COA工艺较为复杂，良率也较低，因此主流的技术仍为彩色滤光片和薄膜晶体管阵列基板分离的结构。上述薄膜晶体管阵列基板主要包括数据线、扫描线、薄膜晶体管开关、像素电极、外围电路等；而彩色滤光片基板上主要包括黑矩阵(Black Matrix，BM)、红(R)，绿(G)，蓝(B)三原色的滤光层等。由于液晶面板是通过改变驱动集成芯片的电压来控制液晶分子的排列状态，决定背光源的开关，经由滤光层形成不同色光，从而创造出各种色彩，可使液晶显示器呈现逼真，鲜艳的画面，因此彩色滤光片为液晶显示器的关键组件。传统的彩色滤光片生产至少需要下列5道掩膜(Mask)如下:在玻璃基板上以溅镀树脂层膜以形成黑矩阵、接着在黑矩阵之间的开口部形成红色滤光图案、重复上述步骤再依序形成绿色滤光图案、蓝色滤光图案、最后再形成间隙层(Photo Spacer, PS),而垂直配向液晶显示器(Mult1-domain Vertical Alignment, MVA IXD)更需要通过六道掩膜:黑矩阵、红色滤光图案、绿色滤光图案、蓝色滤光图案、共用电极、间隙层才能实现。其中，上述红色滤光图案、绿色滤光图案与蓝色滤光图案必须使用三张不同的掩膜，依序进行三次曝光、显影等步骤而完成，如图1至3所示，先利用第一张掩膜11形成红色滤光图案110之后,利用第二张掩膜12形成绿色滤光图案120，再利用第三张掩膜13形成蓝色滤光图案130。由于在现有技术中，形成红色滤光图案、绿色滤光图案与蓝色滤光图案必须利用三张不同的掩膜而完成，因此生产成本高，花费时间长。故，有必要提供一种彩色滤光片基板的制造方法，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种，特别是一种共用同一掩膜实现具有红(R)，绿(G)，蓝(B)三原色滤光层的制造方法以降低掩膜成本。为实现本专利技术目的，提供一种彩色滤光片的制造方法如下:提供一基板；在所述基板上形成黑矩阵层；在形成有黑矩阵层的基板上，通过一掩模形成至少一第一滤光图案；在形成有所述黑矩阵以及所述第一滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第二滤光图案；在形成有所述黑矩阵、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第三滤光图案；其中，所述掩膜具有与所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案分别对应的不同的透光光谱。在本专利技术的一实施例中，所述彩色滤光片的制造方法还可包括:在设置有所述黑矩阵层、第一滤光图案、第二滤光图案以及第三滤光图案的基板上，形成一保护层；在所述保护层的上方形成一公用电极层；以及在所述公用电极层上方形成一间隙层。本专利技术的特征在于，所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案具有不同的颜色且直列并排在所述基板上，所述在形成有所述黑矩阵层的基板上，通过一掩模形成至少一第一滤光图案包括:清洗设置有所述黑矩阵层的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第一光阻材料，所述第一光阻材料的感光频率落于所述掩模的对应于所述第一滤光图案的透光光谱的范围内；将涂覆有所述第一光阻材料的所述基板进行紫外线曝光以及显影以形成第一滤光图案。接着，在所述形成有所述黑矩阵以及所述第一滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第二滤光图案包括:清洗设置有所述黑矩阵层以及所述第一滤光图案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第二光阻材料，所述第二光阻材料的感光频率落于所述掩模的对应于所述第二滤光图案的透光光谱的范围内；将涂覆有所述第二光阻材料的所述基板进行紫外线曝光以及显影以形成第二滤光图案。以及，在所述形成有所述黑矩阵、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第三滤光图案包括:清洗设置有所述黑矩阵层、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第三光阻材料，所述第三光阻材料的感光频率落于所述掩模的对应于所述第三滤光图案的透光光谱的范围内；将涂覆有所述第三光阻材料的所述基板进行紫外线曝光以及显影以形成第三滤光图案。所述第一光阻材料、所述第二光阻材料以及所述第三光阻材料为有机负型光阻。所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案分别为红光、绿光、蓝光图案。在本专利技术的一实施例中，提供一种由上述制造方法所完成的彩色滤光片，所述彩色滤光片包括:基板；多个黑矩阵，设置于所述基板上；以及多个不同颜色的滤光图案，直列并列于所述基板上且每一所述滤光图案设置于两相邻的所述黑矩阵之间。在本专利技术的另一实施例中，所述彩色滤光片还可包括:一保护层，设置于所述黑矩阵与所述多个不同颜色的滤光图案上方；一公用电极层，设置于所述保护层上方；以及一间隙层，设置于所述公用电极层上方。由于本专利技术所述的掩膜可根据第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案不同的透光光谱，选择第一光阻材料、所述第二光阻材料以及所述第三光阻材料的感光频率，因此所述第一滤光图案、第二滤光图案以及第三滤光图案可共用同一张掩膜，进而减少两张掩膜量，简化彩色滤光片的制程并且降低液晶显示装置的生产成本。为让本专利技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图示，做详细说明如下:【附图说明】图1为现有技术的第一滤光图案制造工艺示意图。图2为现有技术的第二滤光图案制造工艺示意图。图3为现有技术的第三滤光图案制造工艺示意图。图4为本专利技术彩色滤光片的制造流程图。图5为本专利技术的黑矩阵制造工艺示意图。图6为本专利技术的第一滤光图案制造工艺示意图。图7为本专利技术的第二滤光图案制造工艺示意图。图8为本专利技术的第三滤光图案制造工艺示意图。图9为本专利技术第一滤光图案、第二滤光图案以及第三滤光图案的紫外线穿透率光谱图。图10为本专利技术第一滤光图案、第二滤光图案以及第三滤光图案的感光频率图。图11为本专利技术一实施例的彩色滤光片的结构剖面图。图12为本专利技术另一实施例的彩色滤光片的结构剖面图。【具体实施方式】以下各实施例的说明是参考附图，用以式例本专利技术可以用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侦愐」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。请参照图4，显示本专利技术第一优选实施的彩色滤光片的制造流程图。在本实施例中，所述彩色滤光片10可透过颜料分散法(Pigment Dispersed Method)所形成,具体步骤如下:步骤S1:提供一基板50，所述基板50为透明玻璃基板。步骤S2:请参照图5，在所述基板50上形成黑矩阵层51，具体可包括:步骤S211，通过裂缝式或旋转式涂覆本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：提供一基板；在所述基板上形成黑矩阵层；在形成有黑矩阵层的基板上，通过一掩模形成至少一第一滤光图案；在形成有所述黑矩阵以及所述第一滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第二滤光图案；在形成有所述黑矩阵、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第三滤光图案；其中所述掩膜具有与所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案分别对应的不同的透光光谱。

【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤: 提供一基板； 在所述基板上形成黑矩阵层； 在形成有黑矩阵层的基板上，通过一掩模形成至少一第一滤光图案； 在形成有所述黑矩阵以及所述第一滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第二滤光图案； 在形成有所述黑矩阵、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第三滤光图案；其中 所述掩膜具有与所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案分别对应的不同的透光光谱。2.根据权 利要求1所述彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述在所述基板上形成黑矩阵层包括: 将一黑色光阻材料涂覆在所述基板上； 利用紫外线曝光机，将一具有黑矩阵图案的掩模设置于所述黑色光阻材料上方，对所述黑色光阻材料进行曝光； 利用显影剂对所述黑色光阻材料进行显影蚀刻，以形成多个黑矩阵层。3.根据权利要求1所述彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述在所述基板上形成黑矩阵层包括: 以蒸镀或溅镀方式于基板上形成铬或铬合金的薄膜； 将一黑色光阻材料涂覆在所述基板上； 利用紫外线曝光机，将一具有黑矩阵图案的掩模设置于所述黑色光阻材料上方，对所述黑色光阻材料进行曝光； 利用显影剂对所述黑色光阻材料进行显影蚀刻； 利用去除剂将所述黑色光阻材料去除，以形成多个黑矩阵层。4.根据权利要求1所述彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案具有不同的颜色且直列并排在所述基板上，所述在形成有黑矩阵层的基板上，通过一掩模形成至少一第一滤光图案包括: 清洗设置有所述黑矩阵层的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第一光阻材料，所述第一光阻材料的感光频率落于所述掩模的对应于所述第一滤光图案的透光光谱的范围内； 将涂覆有所述第一光阻材料的所述基板进行紫外线曝光以及显影，以形成第一滤光图案。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐向阳，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44