【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及,特别是涉及一种共用同一掩膜实现具有红(R),绿(G),蓝(B)三原色的滤光层的制造方法。
技术介绍
液晶显示装置已被广泛应用于人类的生活和工作中,其中液晶显示装置的液晶面板攸关到液晶显示装置的显示效果,包括视角、明暗程度以及颜色等。主流的薄膜晶体管液晶装置(TFT-1XD),其生产流程主要是通过曝光和掩模实现,由于液晶装置属于被动发光显示模式,其基板包括彩色滤光片和薄膜晶体管阵列两个部分,虽然目前发展有一种彩色滤光片阵列基板(Color film On Array, C0A)设计,但由于COA工艺较为复杂,良率也较低,因此主流的技术仍为彩色滤光片和薄膜晶体管阵列基板分离的结构。上述薄膜晶体管阵列基板主要包括数据线、扫描线、薄膜晶体管开关、像素电极、外围电路等;而彩色滤光片基板上主要包括黑矩阵(Black Matrix,BM)、红(R),绿(G),蓝(B)三原色的滤光层等。由于液晶面板是通过改变驱动集成芯片的电压来控制液晶分子的排列状态,决定背光源的开关,经由滤光层形成不同色光,从而创造出各种色彩,可使液晶显示器呈现逼真,鲜艳的画面,因此彩 ...
【技术保护点】
一种彩色滤光片的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括以下步骤:提供一基板;在所述基板上形成黑矩阵层;在形成有黑矩阵层的基板上,通过一掩模形成至少一第一滤光图案;在形成有所述黑矩阵以及所述第一滤光图案的基板上,通过所述掩模形成至少一第二滤光图案;在形成有所述黑矩阵、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的基板上,通过所述掩模形成至少一第三滤光图案;其中所述掩膜具有与所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案分别对应的不同的透光光谱。
【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光片的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括以下步骤: 提供一基板; 在所述基板上形成黑矩阵层; 在形成有黑矩阵层的基板上,通过一掩模形成至少一第一滤光图案; 在形成有所述黑矩阵以及所述第一滤光图案的基板上,通过所述掩模形成至少一第二滤光图案; 在形成有所述黑矩阵、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的基板上,通过所述掩模形成至少一第三滤光图案;其中 所述掩膜具有与所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案分别对应的不同的透光光谱。2.根据权 利要求1所述彩色滤光片的制造方法,其特征在于,所述在所述基板上形成黑矩阵层包括: 将一黑色光阻材料涂覆在所述基板上; 利用紫外线曝光机,将一具有黑矩阵图案的掩模设置于所述黑色光阻材料上方,对所述黑色光阻材料进行曝光; 利用显影剂对所述黑色光阻材料进行显影蚀刻,以形成多个黑矩阵层。3.根据权利要求1所述彩色滤光片的制造方法,其特征在于,所述在所述基板上形成黑矩阵层包括: 以蒸镀或溅镀方式于基板上形成铬或铬合金的薄膜; 将一黑色光阻材料涂覆在所述基板上; 利用紫外线曝光机,将一具有黑矩阵图案的掩模设置于所述黑色光阻材料上方,对所述黑色光阻材料进行曝光; 利用显影剂对所述黑色光阻材料进行显影蚀刻; 利用去除剂将所述黑色光阻材料去除,以形成多个黑矩阵层。4.根据权利要求1所述彩色滤光片的制造方法,其特征在于,所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案具有不同的颜色且直列并排在所述基板上,所述在形成有黑矩阵层的基板上,通过一掩模形成至少一第一滤光图案包括: 清洗设置有所述黑矩阵层的所述基板,并且在清洗后的所述基板上涂覆第一光阻材料,所述第一光阻材料的感光频率落于所述掩模的对应于所述第一滤光图案的透光光谱的范围内; 将涂覆有所述第一光阻材料的所述基板进行紫外线曝光以及显影,以形成第一滤光图案。5.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐向阳,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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