掩膜板及其制造方法技术

本发明专利技术提供了一种掩膜板及其制造方法，属于显示技术领域。其中，所述掩膜板，包括：金属基材，所述金属基材上设置有至少一个第一镂空区域；有机覆盖层，所述有机覆盖层上设置有至少一个第二镂空区域，所述第二镂空区域的投影位于所述第一镂空区域内；所述有机覆盖层部分或全部覆盖所述金属基材。本发明专利技术的技术方案能够利用激光切割机台制造出高精度掩膜板，并且制造出的高精度掩膜板具有较好的开口精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，特别是指一种。
技术介绍
与传统的IXD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)显示方式相比，OLED(Organic Electroluminescence Display,有机发光二极管)技术无需背光灯，其具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料膜层和玻璃基板，当有电流通过时，有机材料就会发光。因此OLED显示屏能够显著节省电能，可以做得更轻更薄，比IXD显示屏耐受更宽范围的温度变化，而且可视角度更大。其中，OLED屏体的发光层一般都是通过有机材料利用蒸镀成膜技术透过高精度金属掩膜板(fine metal mask，FMM)在阵列基板上相应的像素位置形成有机发光元器件。随着OLED 技术的发展,尤其是 AMOLED (Active Matrix/Organic Light EmittingDiode，有源矩阵有机发光二极体)技术的出现，OLED产品尺寸及玻璃基板尺寸都在不断增加，也要求高精度金属掩膜板的尺寸不断增大。现有的高精度金属掩模板一般是通过光刻工艺来制造，需要用到涂胶机台、高精度曝光机台、化学刻蚀机台等设备，最好本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，其特征在于，包括：金属基材，所述金属基材上设置有至少一个第一镂空区域；有机覆盖层，所述有机覆盖层上设置有至少一个第二镂空区域，所述第二镂空区域的投影位于所述第一镂空区域内；所述有机覆盖层部分或全部覆盖所述金属基材。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,其特征在于,包括: 金属基材，所述金属基材上设置有至少一个第一镂空区域； 有机覆盖层，所述有机覆盖层上设置有至少一个第二镂空区域，所述第二镂空区域的投影位于所述第一镂空区域内； 所述有机覆盖层部分或全部覆盖所述金属基材。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述金属基材为采用殷钢或不锈钢。3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述有机覆盖层为采用能够承受300度以上高温的光刻胶或平坦化胶。4.根据权利要求1所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，所述有机覆盖层的厚度为10_200um。5.根据权利要求1所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，所述有机覆盖层的平坦度不大于50um。6.—种掩膜板的制造方法,其特征在于,包括: 将待加工的金属基材放置到切割机台上，并拉伸所述金属基材； 对所述金属基材进行第一次切割，形成第一镂空区域； 在形成有第一镂空区域的金属基...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘晟恺，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34