【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种金属掩膜板，以解决真空蒸镀法中衬底基板与金属掩膜板对位困难、对位误差较大的问题。所述金属掩膜板用于真空蒸镀法中作为衬底基板的掩膜板，所述金属掩膜板包括掩膜图形及若干对位孔，所述对位孔在所述金属掩膜板中的延伸方向与所述金属掩膜板所在平面的垂直方向不重合，且所述对位孔不穿透所述金属掩膜板。本专利技术实施例中，光线在对位孔内多次反射且一部分光线被吸收，CCD系统根据金属掩膜板的对位孔和衬底基板的对位标记生成的图像具有较大的颜色对比，因此容易区分，从而降低对位难度，减小对位误差。【专利说明】一种金属掩膜板
本专利技术涉及平板显示器制造领域，尤其涉及一种金属掩膜板。
技术介绍
近年来,有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode, OLED)显示器已经成为国内外非常热门的新兴平板显示器产品，OLED显示器具有自发光、广视角、短反应时间、广色域、低工作电压、面板薄、易于做成柔性面板、工作温度范围广等优势。OLED器件的制备通常采用的真空蒸镀法，将镀料在真空中加热、蒸发，使蒸发出来的原子或原子基团在温度较低的衬...
【技术保护点】
一种金属掩膜板，用于真空蒸镀法中作为衬底基板的掩膜板，所述金属掩膜板包括掩膜图形及若干对位孔，其特征在于，所述对位孔在所述金属掩膜板中的延伸方向与所述金属掩膜板所在平面的垂直方向不重合，且所述对位孔不穿透所述金属掩膜板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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