喷墨记录用薄片的制造方法及涂敷膜的干燥装置制造方法及图纸

一种喷墨记录用薄片的制造方法及涂敷膜的干燥装置，在连续行走的基片（１４）上涂敷含有无机微粒及水溶性树脂的墨水吸收层涂敷液之后，通过干燥装置（１８）将墨水吸收层干燥，而使墨水吸收层（１４Ａ）在宽度方向上的干燥速度分布在２０％以内。由此制造在墨水吸收层干燥时不产生裂纹及表面粗糙的喷墨记录用薄片。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于喷墨记录用薄片的制造方法及涂敷膜的干燥装置，特别是关于适合于在喷墨记录用薄片的制造时的墨水吸收层干燥的干燥装置。
技术介绍
在连续行走的基片(web)上涂敷涂敷液之后将形成的涂敷膜干燥的工序，多应用于制造照相用胶片、磁记录介质、喷墨记录用薄片等各种涂敷制品的领域，是影响制品质量的重要因素。特别是在喷墨记录用薄片时墨水吸收层(也称为多孔质层或色材容纳层)的干燥工序中，众所周知，由一般的减速干燥过程容易使墨水吸收层产生裂纹。例如在专利文献1中，涂敷交联剂时的墨水吸收层的含水量过低时，产生裂纹，这不仅造成制品的损失，而且有裂纹的涂敷薄片在工序中脱落，成为工序污染的原因，反之，墨水吸收层的含水量过高时，记载有涂敷膜表面成为柚皮状表面粗糙状态的问题。而且，在专利文献1中，公开了一种该对策，在表示色材容纳层为减速干燥速度之前，使墨水吸收层中的固态部分浓度在15～40(wt)％的范围内再进行干燥。而且，在专利文献2中记载有涂敷的涂敷液的量多的情况下，若在有风的状态下进行干燥，则由于在涂敷面不均匀的部分干燥时的收缩不同所以在干燥时容易产生裂纹。作为对这一问题的对策，提出了以实质上没有风的状态干燥到使墨水吸收层的涂敷液浓度超过25wt％。专利文献1特开平11-348412号公报专利文献2特开平11-91238号公报然而，即使是在专利文献1或专利文献2中所述的干燥方法中，也有不能完全防止墨水吸收层的裂纹的问题。特别是在墨水吸收层的基片方向的两端部有时产生裂纹、尤其有时产生裂纹状的裂纹及表面粗糙的干燥缺陷等，防止其发生的对策也成为一个课题。而且，对于这样的在涂敷宽度方向的干燥缺陷的防止对策，还不是仅限于墨水吸收层，可以说对于一般的涂敷膜都具有意义，希望有能够对在涂敷宽度方向的干燥缺陷进行防止的干燥装置。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而做出的，其目的在于提供一种在墨水吸收层干燥时不产生裂纹及表面粗糙的喷墨记录用薄片的制造方法，以及能够对在涂敷宽度方向的干燥缺陷进行防止的干燥装置。本专利技术的专利技术者在墨水吸收层等涂敷膜的干燥过程中，发现在涂敷膜的各部分产生了干燥速度分布时，涂敷膜的各部分的收缩速度不同，涂敷膜中产生的大的应力使得容易产生裂纹状的裂纹。进而，在以干燥的以基片为边界的涂敷膜一侧配置有吹出热风的吹出喷嘴，在涂敷膜面的相反一侧有排气口的一般干燥装置中，由吹出喷嘴吹出的热风在到达涂敷膜面之后形成从基片宽度方向两侧流出的气流。旋入基片的背面从排气口排出。由此，由于在涂敷膜的基片宽度方向的两端部会积存热风，使其比中央部更早(更快)地干燥，所以可知干燥速度分布使裂纹状的裂纹容易发生。而且，已经知道如果能够将涂敷膜在基片宽度方向的干燥速度分布控制在20％以下，则裂纹状的裂纹不容易发生。本专利技术是基于上述见解，在构成喷墨记录用薄片的制造方法的同时，还构成了在基片宽度方向不容易生成干燥速度分布的干燥装置。为了达到上述目的，本专利技术的第1项专利技术，具有在连续行走的基片上涂敷含有无机微粒及水溶性树脂的墨水吸收层涂敷液后、将该吸收层干燥的干燥工序，其特征在于在所述干燥工序中，所述墨水吸收层在基片宽度方向上的干燥速度分布在20％以内。这里，所谓墨水吸收层在基片宽度上的干燥速度分布在20％以下，是指基片宽度上的最大干燥速度对于最小干燥速度的增加率即使是最大也在20％以下，通常，在涂敷膜的基片宽度上的中央部表现出小的干燥速度，而基片宽度上的两端部表现出大的干燥速度。根据本专利技术的第1项专利技术，由于是在墨水吸收层在基片宽度上的干燥速度分布在20％以下的条件进行干燥，所以能够抑制墨水吸收层在基片宽度上的两端部所发生的裂纹状裂纹及表面粗糙的干燥缺陷。在这种情况下，优选墨水吸收层在基片宽度上的干燥速度分布能够在15％以下。为了达到上述目的，本专利技术的第2项专利技术，对涂敷形成在连续行走的基片上的涂敷膜以热风进行干燥，其特征在于，设置有形成有所述基片从入口向出口行走的隧道状干燥区的干燥装置本体；被设置在所述干燥区域的以所述基片为边界的涂敷膜面一侧，从所述入口向所述出口间隔地配置在所述基片宽度方向上具有狭缝状吹出口的多个吹出喷嘴，同时，在相邻的喷嘴彼此间具有比该吹出喷嘴的前端凹入的空间的热风吹出部；以及被设在所述干燥区域的以所述基片为边界的涂敷膜面的相反一侧，将从所述吹出喷嘴吹出的热风排出的排气部，并且，在所述空间的从基片行走方向观察的纵剖面积为S(m2)、并在所述吹出喷嘴的基片宽度方向的1m的长度上从该吹出喷嘴吹出的热风的风量为V(m3/分)时，形成所述空间的纵剖面积与所述风量之间具有(S/V)×1000的值为0.5以上的关系。本专利技术的第2项专利技术，是表示为了在涂敷层在基片宽度上的干燥速度分布在20％以下的条件下进行干燥的干燥装置的一例。也就是说，通过增大对于吹出喷嘴吹出风量的空间容量，使(S/V)×1000的值为0.5以上，能够使由吹出喷嘴吹出到达涂敷膜面的热风容易进行到该空间。由此，在热风到达涂敷膜面后，就不容易形成向基片宽度上的两端侧流过的气流，同时，即使形成这样的气流，其风量(风速)也变小。这样，由于在基片两端部热风累积的比例减小，所以能够将涂敷膜在基片宽度上的干燥速度分布抑制在20％以下。为了达到上述目的，本专利技术的第3项专利技术，是对涂敷形成在连续行走的基片上的涂敷膜以热风进行干燥的涂敷膜的干燥装置，其特征在于，设置有形成有所述基片从入口向出口行走的隧道状干燥区的干燥装置本体；设在所述干燥区域的以所述基片为边界的涂敷膜面一侧，从所述入口向所述出口间隔地配置有在所述基片宽度方向上具有狭缝状吹出口的多个吹出喷嘴的热风吹出部；以及将从所述吹出喷嘴吹出的热风从膜面的上方进行排出的排气装置。本专利技术的第3项专利技术，是表示为了在涂敷层在基片宽度上的干燥速度分布在20％以下的条件下进行干燥的干燥装置的另一例。也就是说，通过将从所述吹出喷嘴吹出的热风从膜面的上方进行排出，在热风到达涂敷膜面后，就不容易形成向基片宽度上的两端侧流过的气流，同时，即使形成这样的气流，其风量也变小。这样，由于在基片两端部热风累积的比例减小，所以能够将涂敷膜在基片宽度上的干燥速度分布抑制在20％以下。本专利技术的第4项专利技术，基于第3项专利技术，其特征在于所述热风吹出部在相邻的喷嘴彼此之间具有比该吹出喷嘴的前端凹入的空间，同时，由所述排气装置将该空间内的气体排出。这是将由吹出喷嘴吹出、到达涂敷膜面后进入到空间的热风进行积极排气的装置，使得到达涂敷膜面的热风更容易进入到空间中。由此，在热风到达涂敷膜面后，就不容易形成向基片宽度上的两端侧流过的气流，同时，即使形成这样的气流，其风量也变小。这样，由于在基片两端部热风累积的比例减小，所以能够将涂敷膜在基片宽度上的干燥速度分布抑制在20％以下。为了达到上述目的，本专利技术的第5项专利技术，是对涂敷形成在连续行走的基片上的涂敷膜以热风进行干燥的涂敷膜的干燥装置，其特征在于，设置有形成有所述基片从入口向出口行走的隧道状干燥区的干燥装置本体；设在所述干燥区域的以所述基片为边界的涂敷膜面一侧，从所述入口向所述出口间隔地配置在所述基片宽度方向上具有狭缝状吹出口的多个吹出喷嘴的热风吹出部；以及设在所述干燥区域的以所述基片为边界的涂敷膜面的相反一侧，将所述干燥区的气体排出的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷墨记录用薄片的制造方法，具有在连续行走的基片上涂敷含有无机微粒及水溶性树脂的墨水吸收层涂敷液后、将该吸收层干燥的干燥工序，其特征在于：在所述干燥工序中，所述墨水吸收层在基片宽度方向上的干燥速度分布在２０％以内。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：藤浪达也，柏原丰，高田克彦，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]