本发明专利技术提供了一种自对准金属层结构及其制备方法，包括：提供一衬底，所述衬底包括一导电层；在所述导电层上制备一图形；在所述导电层上电镀形成具有所述图形的电镀金属层，从而可以采用自对准的方法直接制备具有图形的电镀金属层。本发明专利技术还提供一种镜片及其制备方法，包括：所述玻璃基板的第一面上制备具有一第一图形的第一遮光层；在所述玻璃基板的第二面上制备一透明导电层；在所述透明导电层上制备正对所述第一图形的一第二图形；在所述透明导电层上电镀形成第二遮光层，所述第二遮光层具有所述第二图形。采用镜片的制备方法可以使得第一图形和第二图形精确对准。所述镜片可以用于制备镜片模组。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种自对准金属层结构及其制备方法，包括：提供一衬底，所述衬底包括一导电层；在所述导电层上制备一图形；在所述导电层上电镀形成具有所述图形的电镀金属层，从而可以采用自对准的方法直接制备具有图形的电镀金属层。本专利技术还提供一种镜片及其制备方法，包括：所述玻璃基板的第一面上制备具有一第一图形的第一遮光层；在所述玻璃基板的第二面上制备一透明导电层；在所述透明导电层上制备正对所述第一图形的一第二图形；在所述透明导电层上电镀形成第二遮光层，所述第二遮光层具有所述第二图形。采用镜片的制备方法可以使得第一图形和第二图形精确对准。所述镜片可以用于制备镜片模组。【专利说明】自对准金属层结构、镜片及其制备方法以及镜片模组
本专利技术涉及晶圆制备
，特别涉及一种自对准金属层结构、镜片及其制备方法以及镜片模组。
技术介绍
随着多媒体技术的发展，数码相机、摄影机、具有相机功能的手机越来越受到广大消费者青睐，在人们对数码相机、摄影机、具有相机功能的手机追求小型化的同时，对其拍摄出物体的影像质量提出更高要求，即希望拍摄物体的影像画面清晰，而物体的成像质量在很大程度上取决于数码相机内各光学元件的优劣。数码相机的镜头一般由至少一个透镜光圈组成，图1是现有技术中晶圆级光学镜片的示意图。透镜光圈I包括:玻璃基板10，所述玻璃基板10包括第一面101以及与所述第一面101相对的第二面102 ;所述第一面101上设置有第一遮光层11，所述第一遮光层11具有第一图形111 ;所述第二面102上设置有第二遮光层12，所述第二遮光层12具有第二图形121。所述第二图形121正对所述第一图形111，使得光线正好可以从所述第一图形111和第二图形121中穿过。然而，在现有技术中，所述第一图形111和第二图形121都是通过光刻-刻蚀的方法分别在所述第一遮光层11和第二遮光层12上形成，使得无法很好的将所述第一图形111与第二图形121对准，从而影响透镜模组的光学性能，进而影响数码相机的成像质量。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种对准金属层结构、镜片及其制备方法以及镜片模组，可以采用自对准的方法制备电镀金属层(遮光层)，从而提高第一图形与第二图形对准的对准精度。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种自对准金属层结构的制备方法，包括:提供一衬底，所述衬底包括一导电层；在所述导电层上制备一图形；在所述导电层上电镀形成具有所述图形的电镀金属层。进一步的，在所述自对准金属层结构的制备方法中，采用刻蚀工艺在所述导电层上制备所述图形。根据本专利技术的另一面，本专利技术还提供一种自对准金属层结构，包括:衬底，所述衬底包括一导电层，所述导电层上包括一图形；电镀金属层，形成于所述导电层上，所述电镀金属层具有所述图形。进一步的，在所述自对准金属层结构中，所述导电层的材料为非金属材料。进一步的，在所述自对准金属层结构中，所述电镀金属层的材料为铬、铜、钨、铝、银、三氧化二铬、氮化铊或氧化银。根据本专利技术的另一面，本专利技术还提供一种镜片的制备方法，包括:提供一玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面；在所述第一面上制备具有一第一图形的第一遮光层；在所述第二面上制备一透明导电层；在所述透明导电层上制备正对所述第一图形的一第二图形；在所述透明导电层上电镀形成第二遮光层，所述第二遮光层具有所述第二图形。进一步的，在所述镜片的制备方法中，在所述第一面上制备具有一第一图形的第一遮光层的步骤包括:在所述第一面上制备另一透明导电层；在所述另一透明导电层上制备所述第一图形；在所述另一透明导电层上电镀形成所述第一遮光层，所述第一遮光层具有所述第一图形。进一步的，在所述镜片的制备方法中，采用刻蚀工艺在所述另一透明导电层上制备所述第一图形。进一步的，在所述镜片的制备方法中，采用刻蚀工艺在所述的一透明导电层上制备所述第二图形。根据本专利技术的另一面，本专利技术还提供一种镜片的制备方法，包括:提供一玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面；在所述第一面上制备第一透明导电层，在所述第二面上制备第二透明导电层，所述第一透明导电层上具有一第一图形；在所述的第二透明导电层上制备正对所述第一图形的一第二图形；在所述第一透明导电层上电镀形成第一遮光层，同时在所述第二透明导电层上电镀形成第二遮光层，所述第一遮光层具有所述第一图形，所述第二遮光层具有所述第二图形。进一步的，在所述镜片的制备方法中，采用刻蚀工艺在所述第一透明导电层上制备所述第一图形。进一步的，在所述镜片的制备方法中，采用刻蚀工艺在所述第二透明导电层上制备所述第二图形。根据本专利技术的另一面，本专利技术还提供一种镜片，包括:玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面；所述第一面上设置有第一透明导电层，所述第一透明导电层上包括一第一图形；第一遮光层，电镀形成于所述第一透明导电层上，所述第一遮光层具有所述第一图形；所述第二面上设置有第二遮光层，所述第二遮光层中包括第二图形，所述第二图形正对所述第一图形。进一步的，在所述镜片中，所述第二面与所述第二遮光层之间还设置有第二透明导电层，所述第二透明导电层具有所述第二图形，所述第二遮光层电镀形成于所述第二透明导电层上。 进一步的，在所述镜片中，所述第二透明导电层的材料为氧化铟锡、氧化铟、氧化锌、氧化锌铝、氧化锡、氧化锡锑或氧化锡氟。进一步的，在所述镜片中，所述第二透明导电层的厚度为0.1 μ m?2 μ m。进一步的，在所述镜片中，所述第二遮光层的材料为铬、铜、钨、铝、银、三氧化二铬、氮化铊或氧化银。进一步的，在所述镜片中，所述第二遮光层的厚度为0.05μπι?Ιμπι。进一步的，在所述镜片中，所述第二图形的宽度为0.1mm?50mm。进一步的，在所述镜片中，所述第一透明导电层的材料为氧化铟锡、氧化铟、氧化锌、氧化锌铝、氧化锡、氧化锡锑或氧化锡氟。进一步的，在所述镜片中，所述第一透明导电层的厚度为0.Ιμπι?2μπι。进一步的，在所述镜片中，所述第一遮光层的材料为铬、铜、钨、铝、银、三氧化二铬、氮化铊或氧化银。进一步的，在所述镜片中，所述第一遮光层的厚度为0.05μπι?Ιμπι。进一步的，在所述镜片中，所述第一图形的宽度为0.1mm?50mm。根据本专利技术的另一面，本专利技术还提供一种镜片模组，包括如上所述的任意一项镜片。与现有技术相比，本专利技术提供的对准金属层结构、镜片及其制备方法以及镜片模组具有以下优点:1.在本专利技术提供的自对准金属层结构及其制备方法中，在所述导电层上制备所述图形，然后进行电镀工艺，对所述导电层通电，所述导电层作为电极，电镀液在所述导电层的表面析出金属，从而在所述导电层上自对准地生长出所述电镀金属层，由于所述导电层具有所述图形，所以，所述电镀金属层亦具有所述图形，避免对金属进行刻蚀，提高所述图形的精准度。2.在本专利技术提供的镜片及其制备方法中，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面，所述第一面上具有所述第一图形，在所述第二面上制备一透明导电层，在所述透明导电层上制备正对所述第一图形的一第二图形，因为所述第一透明导电层的材质透明，所以，透过所述透明导电层和玻璃基板，很容易找到所本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种自对准金属层结构的制备方法，其特征在于，包括：提供一衬底，所述衬底包括一导电层；在所述导电层上制备一图形；在所述导电层上电镀形成具有所述图形的电镀金属层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：钟嘉明，林建邦，
申请(专利权)人：豪威光电子科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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