保偏隔离器制造技术

本实用新型专利技术涉及一种保偏隔离器，包括隔离器和旋光片组件，所述旋光片组件安装于所述隔离器的前端；所述隔离器包括起偏器、第一法拉第介质、检偏器以及第一磁环，所述起偏器、所述第一法拉第介质以及所述检偏器均位于所述第一磁环内部，且所述第一法拉第介质位于所述起偏器和所述检偏器之间；所述旋光片组件包括第二法拉第介质以及第二磁环，所述第二法拉第介质位于所述第二磁环内；所述第一磁环和所述第二磁环相靠近的一侧磁性相同，所述第二法拉第介质与所述检偏器相邻设置。借助上述结构，所述保偏隔离器可有效的补偿光线通过隔离器后的角度旋转，消除传统隔离器引起的偏振方向改变对光路的影响，提供一种性能较好的光路。

【技术实现步骤摘要】
保偏隔离器
本技术涉及一种保偏隔离器，应用于光通信领域。
技术介绍
目前，光通信领域广泛使用法拉第式隔离器，如图1所示，该隔离器包括起偏器a、法拉第介质b、检偏器C、磁环d以及金属组件(未标号)。由于法拉第介质b的旋光特性,入射光线经过整个隔离器后偏振方向会有45°的旋转。光路中有些光器件如滤光片，对于光线偏振方向的变化非常敏感，由于隔离器引起的光偏振方向的改变往往会降低整个光路的性能。因此有必要设计一种新型的保偏隔离器，以克服上述问题。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术之缺陷，提供了一种光路性能较好的保偏隔离器。本技术是这样实现的:本技术提供一种保偏隔离器，包括隔离器和旋光片组件，所述旋光片组件安装于所述隔离器的前端；所述隔离器包括起偏器、第一法拉第介质、检偏器以及第一磁环，所述起偏器、所述第一法拉第介质以及所述检偏器均位于所述第一磁环内部，且所述第一法拉第介质位于所述起偏器和所述检偏器之间；所述旋光片组件包括第二法拉第介质以及第二磁环，所述第二法拉第介质位于所述第二磁环内；其中，所述第一磁环和所述第二磁环相靠近的一侧磁性相同，所述第二法拉第介质与所述检偏器相邻设置。进一步地，所述隔离器具有一第一金属件，所述第一金属件呈环状，所述第一磁环位于所述第一金属件的内部，所述第一金属件的前端具有至少一个第一缺口。进一步地，所述旋光片组件具有一第二金属件，所述第二金属件呈环状，所述第二磁环位于所述第二金属件的内部，所述第二金属件的前端具有至少一个第二缺口，所述第一缺口和所述第二缺口位于同一水平线上。进一步地，所述第一法拉第介质和所述第二法拉第介质相同。本技术具有以下有益效果:入射光线在所述隔离器中和在所述旋光片组件中均旋转了相同的角度，由于所述第一磁环和所述第二磁环相靠近的一侧磁性相同，使得所述第一磁环和所述第二磁环内部的磁场方向相反，因此入射光线经过两次旋转的角度相反，使得最终的出射光线与入射光线的偏振方向相同，从而有效的补偿光线通过隔离器后的角度旋转，消除传统隔离器引起的偏振方向改变对光路的影响，提供一种性能较好的光路。【附图说明】为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为现有的隔离器的剖视图；图2为本技术实施例提供的保偏隔离器的立体图；图3为本技术实施例提供的保偏隔离器的剖视图。【具体实施方式】下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。如图2-图3，本技术提供一种保偏隔离器，包括隔离器I和旋光片组件2，所述旋光片组件2安装于所述隔离器I的前端。如图2-图3,所述隔离器I包括起偏器13、第一法拉第介质14、检偏器15、第一磁环12以及第一金属件11，所述第一金属件11呈环状，所述第一磁环12位于所述第一金属件11的内部，所述第一金属件11的前端具有至少一个第一缺口 16，在本较佳实施例中，所述第一缺口 16的数量为两个。所述起偏器13、所述第一法拉第介质14以及所述检偏器15均位于所述第一磁环12内部，且所述第一法拉第介质14位于所述起偏器13和所述检偏器15之间。入射光线射入时，依次经过所述起偏器13、所述第一法拉第介质14和所述检偏器15，再射出。如图2-图3，所述旋光片组件2包括第二法拉第介质24、第二磁环22以及第二金属件21，所述第二金属件21呈环状，所述第二金属件21的前端具有至少一个第二缺口 26，在本较佳实施例中，所述第二缺口 26的数量为两个。所述第一缺口 16和所述第二缺口 26位于同一水平线上，因此可以保证所述隔离器I和所述旋光片组件2正确的对位。所述第二磁环22位于所述第二金属件21的内部，所述第二法拉第介质24位于所述第二磁环22内，所述第二法拉第介质24与所述检偏器15相邻设置，从所述检偏器15射出的光线会射入所述第二法拉第介质24，然后再次射出。在本较佳实施例中，所述第一法拉第介质14和所述第二法拉第介质24相同，也即是两者完全一样，在尺寸大小、材质、安装方位等一致。如图2-图3，所述第一磁环12和所述第二磁环22相靠近的一侧磁性相同，使得所述第一磁环12和所述第二磁环22内部的磁场方向相反。入射光线在所述隔离器I中和在所述旋光片组件2中均旋转了相同的角度，由于所述第一磁环12和所述第二磁环22内部的磁场方向相反，因此入射光线经过两次旋转的角度相反，使得最终的出射光线与入射光线的偏振方向相同，从而有效的补偿光线通过隔离器I后的角度旋转，消除传统隔离器I引起的偏振方向改变对光路的影响。如图2-图3，所述保偏隔离器的具体的原理如下:入射光线射入所述隔离器1，通常入射光线的偏振方向与所述起偏器13的偏振方向相同，光线无损耗通过。从所述起偏器13出射的光线进入所述第一法拉第介质14，在所述第一磁环12磁场的作用下，光线的偏振方向在所述第一法拉第介质14顺时针(或逆时针)旋转，在离开所述第一法拉第介质14时，光线偏振方向旋转45°。光线再进入所述检偏器15,由于所述检偏器15的偏振方向较所述起偏器13的偏振方向有着顺时针(或逆时针)45°的夹角。此时光线的偏振方向刚好和所述检偏器15的偏振方向相同，所以光线无损耗通过所述检偏器15。光线从所述检偏器15出射后进入所述旋光片组件2中的第二法拉第介质24，在所述第二磁环22磁场的作用下，光线的偏振方向在所述第二法拉第介质24逆时针(或者顺时针)旋转，在离开所述第二法拉第介质24时，光线偏振方向较进入所述旋光片组件2时旋转了 45°。由于光线在隔离器I中和在旋光片中均旋转了 45°，且旋转的方向相反，使得最终的出射光线与入射光线的偏振方向相同，从而有效的补偿光线通过隔离器I后的角度旋转，消除传统隔离器引起的偏振方向改变对光路的影响，提供了 一种性能较好的光路。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种保偏隔离器，其特征在于，包括隔离器和旋光片组件，所述旋光片组件安装于所述隔离器的前端；所述隔离器包括起偏器、第一法拉第介质、检偏器以及第一磁环，所述起偏器、所述第一法拉第介质以及所述检偏器均位于所述第一磁环内部，且所述第一法拉第介质位于所述起偏器和所述检偏器之间；所述旋光片组件包括第二法拉第介质以及第二磁环，所述第二法拉第介质位于所述第二磁环内；其中，所述第一磁环和所述第二磁环相靠近的一侧磁性相同，所述第二法拉第介质与所述检偏器相邻设置。

【技术特征摘要】
1.一种保偏隔离器，其特征在于，包括隔离器和旋光片组件，所述旋光片组件安装于所述隔离器的前端； 所述隔离器包括起偏器、第一法拉第介质、检偏器以及第一磁环，所述起偏器、所述第一法拉第介质以及所述检偏器均位于所述第一磁环内部，且所述第一法拉第介质位于所述起偏器和所述检偏器之间； 所述旋光片组件包括第二法拉第介质以及第二磁环，所述第二法拉第介质位于所述第二磁环内； 其中，所述第一磁环和所述第二磁环相靠近的一侧磁性相同，所述第二法拉第介质与所述检偏器相邻设置。2.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：董浩，刘成刚，郑盼，米全林，
申请(专利权)人：武汉电信器件有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42