适用于印章的光敏垫及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种适用于印章的光敏垫及其制备方法。本发明专利技术光敏垫材料为一种微孔泡沫材料，组分包括：聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和其他助剂。本发明专利技术的用于印章的光敏垫，孔径尺寸小、均匀性好，产品质量稳定。能够满足有关方面的需要。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种人造树脂为主的微孔泡沫材料及其制备方法，具体说是光敏印章用的印章垫及其制备方法。
技术介绍
随着印章业的不断发展，制作印章用材料要求越来越高。目前，制作万次印章(一次加油墨，可使用万次以上的渗透型印章)使用最广泛的材料为聚氯乙稀粉末烧结材料，即原子印章。其报道有JP8011882、JP8022962、JP81151586、JP8037331所述，该方法是聚氯乙烯粉状原料和增塑剂、稳定剂、填料及其他助剂混合后，制成粒料，粒料经低温粉碎得到大部分超过200目的微小颗粒，微小颗粒加入到相应模具中，经加热烧结得到多孔材料，该多孔材料可作为储存印油的印章材料。中国专利93114619采用软质聚氯乙烯，经粉碎到60～150目通过，将粉料加入模具中，经加热烧结，得到多孔材料，用于储油印章材料。上述几种方法都需要经低温粉碎，得到微小粉末，再将粉末加入到模具中加温烧结而成。这种方法得到储油印章材料工艺复杂、投资大(需低温粉碎设备)、多孔材料孔径尺寸大、均匀性差，产品质量不稳定。用该材料制作印章工序复杂，印章解晰度低。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种稳定性好、图文制作简单方便、经济、，以克服现有技术存在的上述缺陷。本专利技术光敏垫材料为一种微孔泡沫材料，组分和重量百分比包括聚烯烃或其共聚物树脂70～90％ 有机颜料光敏助剂0.1～5％酚类抗氧剂 0.5～3％非离子表面活性剂0.5～3％其他助剂5～25％。优选的重量百分比为聚烯烃或其共聚物树脂75～85％有机颜料光敏助剂0.5～5％酚类抗氧剂 1～2％非离子表面活性剂1～2％其他助剂10～20％更优选的为聚烯烃或其共聚物树脂78～82％有机颜料光敏助剂1～3％酚类抗氧剂 1～2％非离子表面活性剂1～2％其他助剂12～18％。微孔尺寸为3微米～100微米，最好微孔尺寸为10微米～40微米，微孔为开孔结构，其开孔率为70～99％，最好开孔率为95～99％。所述及的有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂的具体品种，行业内技术人员都是公知的。有机颜料光敏助剂选自色淀颜料中的一种或其混合物，优选炭黑、黑色素或深色颜料，如兰色、棕色、绿色、红色等；所说的酚类抗氧剂优选2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧剂246)、2，2’-甲撑双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(抗氧剂2246)或四季戊四醇酯(抗氧剂1010)。非离子表面活性剂选自高级醇环氧乙烷加成物、烷基酚环氧乙烷加成物、脂肪酸环氧乙烷加成物及多元醇类非离子表面活性剂等，优选脂肪醇聚氧乙烯醚(如平平加O-20)、烷基酚聚氧乙烯醚(如乳化剂OP)、脂肪酸聚氧乙烯醚(如乳化剂A110、A115)或失水山梨醇脂肪酸酯(如斯潘20、60、80)。所述及的聚烯烃或其共聚物树脂选自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚丁烯、乙烯丙烯共聚物、乙烯醋酸乙烯共聚物、乙烯丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯丁二烯共聚物、聚氯乙稀、氯化聚乙烯、氯磺化聚乙烯、聚异戊二烯、聚丁二烯、聚氨酯中的一种或一种以上；所述及的其他助剂为加工助剂，选自硬脂酸、石蜡、油酸酰胺、芥酸酰胺、双硬脂酸酰胺、聚乙烯蜡、氧化聚乙烯蜡、硬脂酸锌、硬脂酸钡或硬脂酸钙中的一种或一种以上。本专利技术的适用于印章的光敏垫的制备方法包括如下步骤将聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和其他助剂经初步混合，并加入上述总重量3～5倍的无机填料，混合均匀，采用常规的模压、挤出或注塑等方法，制备型材，即料胚，将料胚浸渍于溶剂中，常温下溶解，除去料胚中的无机填料，形成微孔开孔泡沫材料，得到微孔尺寸在3～100微米的光敏垫。所说的无机填料选自碳酸钾、碳酸钙、碳酸钠、碳酸镁、氢氧化铝、氢氧化镁、氢氧化钡、硝酸钾、硝酸钠、氯化钾、氯化钠、氯化钙、氯化镁、磷酸钾、磷酸钠或硫酸钠中的一种或其混合物；所说的溶剂选自盐酸、硫酸、水、碳酸、硝酸或醋酸中的一种或其混合物。本专利技术的用于印章的光敏垫，性能优良，将其制备成为光敏印章在众多性能上均优于原子印章。由上述公开的技术方案看见，本专利技术的用于印章的光敏垫，多孔材料孔径尺寸小、均匀性好，产品质量稳定。能够满足有关方面的需要。具体实施例方式实施例1将聚乙烯树脂70质量份，色素碳黑5.0质量份，四季戊四醇酯(抗氧剂1010)3.0质量份，失水山梨醇单月桂酸酯(斯潘20)3.0质量份，硬脂酸5质量份，石蜡8质量份，聚乙烯蜡3质量份，硬脂酸钙2质量份，石蜡油7质量份、碳酸钙400质量份，用混合均匀，模压、挤出、注塑成型得到料胚)，料胚浸渍于重量浓度为1％的盐酸水溶液中洗涤，去除碳酸钙，得到较软微孔光敏垫。微孔尺寸为10微米，微孔为开孔结构，其开孔率为95％。采用本方法制备成为光敏印章，与万次印章性能比较，其结果如下 实施例2将聚乙烯树脂90质量份，色素碳黑0.1质量份，2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧剂246)0.5质量份，脂肪醇聚氧乙烯(20)醚(平平加O-20)0.5质量份，硬脂酸1质量份，石蜡1质量份，聚乙烯蜡1质量份，石蜡油2质量份、碳酸钙400质量份，用混合均匀，模压、挤出、注塑成型得到型材(料胚)，料胚浸渍于重量浓度为0.5％的硝酸水溶液中洗涤，去除碳酸钙，得到比实例1中较硬微孔光敏垫。微孔尺寸为40微米，微孔为开孔结构，其开孔率为99％。采用本方法制备成为的光敏印章，与万次印章性能比较，其结果如下 实施例3将实施例1中聚乙烯树脂改用共聚聚丙烯树脂，制得与实例2相似软硬微孔光敏垫。实施例4将实施例1中聚乙烯树脂改用乙烯醋酸乙烯共聚物，制得比实例1更软微孔光敏垫。实施例5将实施例1中碳酸钙改用硫酸钠，料胚浸渍于水中洗涤，除去硫酸钠，制得与实例1相似软硬微孔光敏垫。权利要求1.一种适用于印章的光敏垫，其特征在于，为一种微孔泡沫材料，组分和重量百分比包括聚烯烃或其共聚物树脂 70～90％有机颜料光敏助剂 0.1～5％酚类抗氧剂0.5～3％非离子表面活性剂 0.5～3％其他助剂 5～25％。2.根据权利要求1所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，优选的重量百分比为聚烯烃或其共聚物树脂 75～85％有机颜料光敏助剂 0.5～5％酚类抗氧剂1～2％非离子表面活性剂 1～2％其他助剂 10～20％。3.根据权利要求2所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，更优选的为聚烯烃或其共聚物树脂 78～82％有机颜料光敏助剂 1～3％酚类抗氧剂1～2％非离子表面活性剂 1～2％其他助剂 12～18％。4.根据权利要求1所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，微孔尺寸为3微米～100微米，微孔为开孔结构，其开孔率为70～99％。5.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，有机颜料光敏助剂选自色淀颜料中的一种或其混合物。6.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，所说的酚类抗氧剂选自2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧剂246)、2，2’-甲撑双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(抗氧剂2246)或四季戊四醇酯(抗氧剂1010)。7.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，非离子表面活性剂选自高级醇环氧乙烷加成物、烷基酚环氧乙烷加成物、脂肪酸环氧乙烷加成物或多元醇本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于印章的光敏垫，其特征在于，为一种微孔泡沫材料，组分和重量百分比包括：聚烯烃或其共聚物树脂７０～９０％有机颜料光敏助剂０．１～５％酚类抗氧剂０．５～３％非离子表面活性剂０．５～３％ 其他助剂５～２５％。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陆冲，王庆海，唐颂超，
申请(专利权)人：张志华，王卫荣，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]