一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备制造技术

技术编号:10252237 阅读:161 留言:0更新日期:2014-07-24 12:57
本实用新型专利技术公开了一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备,包括第一清洗装置,其特征在于:所述第一清洗装置包括清洗池、至少一个擦拭辊、至少一个支撑辊和若干导向辊,在清洗池内盛放有清洗液,在清洗液上方和内部设置有若干牵引薄膜的导向辊,在清洗池内设置有伸出清洗液液面的支撑辊,在支撑辊的上方设置有擦拭辊,所述薄膜通过支撑辊与擦拭辊之间的间隙。本实用新型专利技术解决了现有技术中无法较好清除纤维素膜表面沉积的粉尘,影响后续薄膜使用的问题,提供了一种结构简单,使用方便,能够去除粉尘,提高薄膜表面质量的去除高分子薄膜表面粉尘的设备。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备,包括第一清洗装置,其特征在于:所述第一清洗装置包括清洗池、至少一个擦拭辊、至少一个支撑辊和若干导向辊,在清洗池内盛放有清洗液,在清洗液上方和内部设置有若干牵引薄膜的导向辊,在清洗池内设置有伸出清洗液液面的支撑辊,在支撑辊的上方设置有擦拭辊,所述薄膜通过支撑辊与擦拭辊之间的间隙。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:邢力姚军
申请(专利权)人:苏州奥特福环境科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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