本发明专利技术提供了电子照相感光体、处理盒及成像装置。本发明专利技术的电子照相感光体包括：导电基体和设置在导电基体上的感光层，并且电子照相感光体的最外表面层由这样的组合物的聚合产物或交联产物构成，该组合物包含选白下式(I)和(II)表示的反应性化合物中的至少一种以及非反应性电荷传输材料；基于最外表面层的重量，组合物中非反应性电荷传输材料的含量为5重量％至40重量％；基于最外表面层的重量，反应前最外表面层中反应性化合物的含量为3重量％以下。即使在加厚最外表面层的情况下，该电子照相感光体仍具有优异的电学性能和机械强度。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了电子照相感光体、处理盒及成像装置。本专利技术的电子照相感光体包括：导电基体和设置在导电基体上的感光层，并且电子照相感光体的最外表面层由这样的组合物的聚合产物或交联产物构成，该组合物包含选白下式(I)和(II)表示的反应性化合物中的至少一种以及非反应性电荷传输材料；基于最外表面层的重量，组合物中非反应性电荷传输材料的含量为5重量％至40重量％；基于最外表面层的重量，反应前最外表面层中反应性化合物的含量为3重量％以下。即使在加厚最外表面层的情况下，该电子照相感光体仍具有优异的电学性能和机械强度。【专利说明】电子照相感光体、处理盒和成像装置
本专利技术涉及电子照相感光体、处理盒和成像装置。
技术介绍
通常，电子照相成像装置具有以下构造和程序。即:通过充电单元将电子照相感光体的表面充电至所需的极性和电势，并通过成像方式曝光而从所述电子照相感光体的带电表面选择性除去电荷，从而形成静电潜像。然后通过显影单元使调色剂附着于所述静电潜像，从而使所述潜像显影形成调色剂图像，通过转印单元将所述调色剂图像转印到转印介质上，然后转印介质作为成像材料而排出。近来，电子照相感光体鉴于其以高速获得高印刷质量的优点，在复印机、激光束打印机等领域的应用已经日益增加。作为用于成像装置的电子照相感光体，已知用于相关
的、使用无机光导电材料(例如硒、硒-締合金、硒-砷合金和硫化镉)的电子照相感光体(无机感光体)，但是近来，主要使用在低成本、可制造性和可处置性方面具有出色优势的采用有机光导电材料的有机感光体(有机感光体)。为了获得寿命更长和可靠性更高的电子照相感光体，已经提出在电子照相感光体的表面上提供保护层来改善强度。以下文献已经提出了用于形成保护层的材料。例如，日本专利文献JP-A-5-40360 (专利文献I)公开了通过固化含有光固化型丙烯酸单体的液体而形成的膜。日本专利文献JP-A-5-216249(专利文献2)公开了通过利用热能或光能使具有碳-碳双键的单体、具有碳-碳双键的电荷转移材料、和粘合剂树脂的混合物在所述单体的碳-碳双键与所述电荷转移材料的碳-碳双键之间进行反应而形成的膜。日本专利文献JP-A-2000-206715 (专利文献3)和日本专利文献JP-A-2001-166509 (专利文献4)公开了作为保护层的膜，所述膜包含这样的化合物，其通过使在同一个分子中具有两个以上链聚合性官能团的空穴传输化合物聚合而形成。另外，日本专利文献N0.2852464(专利文献5)公开了一种电子照相感光体，其使用的膜包含通过使具有改性苯乙烯基的空穴传输化合物聚合而形成的化合物。因为具有链聚合性官能团的空穴传输材料强烈地受固化条件、固化气氛等影响，例如日本专利文献JP-A-2004-12986 (专利文献6)公开了在真空或惰性气体中辐射照射之后进行加热而形成的膜，日本专利文献JP-A-7-72640 (专利文献7)公开了通过在惰性气体中进行加热和固化而形成的膜。此外，例如，专利文献2和日本专利文献JP-A-2004-302450 (专利文献8)公开了将电荷传输材料本身进行丙烯酰基改性以使其可交联，并通过添加不具有电荷传输性能的反应性单体来改善膜强度。此外，已经提出如下作为由反应物和固化膜形成的保护层。例如，日本专利文献JP-A-2000-206717 (专利文献9)公开了一种保护层，其包含通过将电荷传输材料本身改性为三官能或更高官能、然后聚合该材料而形成的化合物。日本专利文献JP-A-2001-175016 (专利文献10)公开了在保护层中使用具有链聚合性官能团的电荷传输材料的聚合产物的技术，以及在保护层中掺入含氟原子的化合物作为润滑剂以改善摩擦特性的技术。另外，日本专利文献JP-A-2007-86522 (专利文献11)公开了通过使具有链聚合性官能团的电荷传输材料从最外表面向内部具有浓度梯度，由此机械特性和电特性均得到了满足。另外，日本专利文献JP-A-2005-62301 (专利文献12)公开了包含具有一个或多个链聚合性官能团的第一电荷传输性化合物、和不具有链聚合性官能团并且基于第一电荷传输性化合物的量为5.0重量％至45.0重量％的第二电荷传输性化合物，但是其没有描述本专利技术的具有特定结构的化合物。日本专利文献JP-A-2006-98728(专利文献13)公开了具有包含在表面保护层中的电荷传输材料的感光体，但是没有描述具体的结构。日本专利文献JP-A-2005-62302(专利文献14)公开了至少包含具有丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基的第一电荷传输性化合物和具有羟基的第二电荷传输性化合物。日本专利文献JP-A-2006-138956(专利文献15)公开了，与包含在电荷传输层中的低分子量电荷传输材料相同的低分子量电荷传输材料还包含在可交联的电荷传输层中。
技术实现思路
本专利技术的目的是提 供一种电子照相感光体，即使加厚最外表面层，所述电子照相感光体也具有优异的电 特性和机械强度。 根据本专利技术的第 一 方面，提供一种电子照相感光体，包括: 导电基体；以及设置于该导电基体上的感光层，其中所述电子照相感光体的最外表面层由组合物的聚合产物或交联产物构成，所述组合物包含选自由式(I)和式(II)表示的反应性化合物中的至少一种以及非反应性电荷传输材料；基于所述最外表面层的重量，所述组合物中的所述非反应性电荷传输材料的含量为5重量％至40重量％ ;并且基于所述最外表面层的重量，反应前所述最外表面层中的所述反应性化合物的含量为3重量％以下:【权利要求】1.一种电子照相感光体,包括: 导电基体；以及 设置于该导电基体上的感光层， 其中所述电子照相感光体的最外表面层由组合物的聚合产物或交联产物构成，所述组合物包含选自由式(I)和式(II)表示的反应性化合物中的至少一种以及非反应性电荷传输材料；基于所述最外表面层的重量，所述组合物中的所述非反应性电荷传输材料的含量为5重量％至40重量％ ;并且基于所述最外表面层的重量，反应前所述最外表面层中的所述反应性化合物的含量为3重量％以下: 2.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，连接至由所述式(II)表示的化合物中的F表示的所述电荷传输骨架上的基团是由下式(IIA-a3)或(IIA-a4)表示的基团: 3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光体，其中由所述式(I)表示的反应性化合物是选自式(1-a)、(1-b)、(1-c)和(1-d)表示的反应性化合物中的至少一个: 4.根据权利要求1至3中任一项所述的电子照相感光体，其中所述式(II)表示的化合物为由下式(ΙΙ-a)表示的化合物: 5.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中连接至所述由式(II)表示的化合物中的F表示的电荷传输骨架上的基团是由下式(IIA-al)或(IIA-a2)表示的基团: 6.根据权利要求1至5中任一项所述的电子照相感光体，其中所述最外表面层包含树脂颗粒。7.根据权利要求6所述的电子照相感光体，其中所述树脂颗粒为由选自以下树脂中的至少一种树脂构成的颗粒，这些树脂为:四氟乙烯树脂、三氟乙烯树脂、六氟乙烯丙烯树脂、氟乙烯树脂、偏二氟乙烯树脂、二氟二氯乙烯树脂、以及它们的共聚物。8.根据权利本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种电子照相感光体，包括：导电基体；以及设置于该导电基体上的感光层，其中所述电子照相感光体的最外表面层由组合物的聚合产物或交联产物构成，所述组合物包含选自由式（I）和式（II）表示的反应性化合物中的至少一种以及非反应性电荷传输材料；基于所述最外表面层的重量，所述组合物中的所述非反应性电荷传输材料的含量为5重量%至40重量%；并且基于所述最外表面层的重量，反应前所述最外表面层中的所述反应性化合物的含量为3重量%以下：其中，在所述式（I）中，F表示电荷传输骨架；L表示包含选自由亚烷基、亚烯基、‑C(=O)‑、‑N(R)‑、‑S‑和‑O‑组成的组中的两个或多个基团的二价连接基团；R表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基；并且m表示1至8的整数：其中，在所述式（II）中，F表示电荷传输骨架；L'表示包含选自由衍生自烷烃或烯烃的三价或四价基团、亚烷基、亚烯基、‑C(=O)‑、‑N(R)‑、‑S‑和‑O‑组成的组中的两个或多个基团的（n＋1）价连接基团；R表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基；m'表示1至6的整数；并且n表示2至3的整数。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：额田克己，山田涉，广濑英一，岩馆侑子，梶原贤志，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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