含有氟化的第二组分的结构化有机膜感光器层制造技术

本发明专利技术提供了一种成像构件，如感光器，其具有为结构化有机膜(SOF)的最外层，所述结构化有机膜包含多个片段和多个连接体，包括至少一个电活性片段和有效量的氟化的第二组分。

【技术实现步骤摘要】
含有氟化的第二组分的结构化有机膜感光器层
技术介绍
在电子摄影(也称为静电印刷)、电子摄影成像或静电摄影成像中，在导电层上含 有光电导绝缘层的电子摄影板、鼓、带等(成像构件或感光器)的表面首先均匀静电带电。然 后，成像构件暴露于激活电磁辐射的图案，如光。辐射选择性地耗散光电导绝缘层的照明区 域上的电荷，同时在未照明区域上留下静电潜像。然后，可通过将微细验电标记粒子沉积于 光电导绝缘层的表面上而使该静电潜像显影，以形成可见图像。然后可将所得可见图像由 成像构件直接或间接地(如通过转印器(transfer)或其他构件)转印至印刷基材,如幻灯片 或纸张。成像过程可使用可重复使用的成像构件而重复多次。尽管可使用多层带式或鼓式感光器获得优良的色粉图像，但已发现随着更高级更 高速的电子摄影复印机、复写机和打印机的开发，对印刷品质存在更大的需要。必须保持带 电图像与偏置电位的微妙平衡，以及色粉和/或显影剂的特性。这另外约束了感光器制造 的品质，因此另外约束了制造产率。成像构件通常暴露于反复的电子摄影循环，所述电子摄影循环使暴露的电荷传输 层或其可选择的顶层经受机械磨损、化学侵蚀和热。该反复循环导致暴露的电荷传输层的 机械特性和电气特性的逐渐劣化。在持久使用过程中的物理和机械损坏，尤其是表面刮擦 缺陷的形成，是带式感光器的失效的主要原因之一。因此，希望改进感光器的机械坚固性， 特别是增加它们的耐刮擦性，由此延长它们的使用寿命。另外，希望增加耐微震动性，从而 在印刷品中使图像重影、背景阴影等达到最少。提供保护外涂层为延长感光器的使用寿命的常规方式。通常，例如，已使用聚合物 抗刮擦和抗裂外涂层作为设计用于延长感光器的寿命的坚固外涂层。然而，常规外涂层配 方在印刷品中显示出重影和背景阴影。改进耐微震动性将提供更稳定的成像构件，从而获 得改进的印刷品质。尽管已采用各种方法用于形成成像构件，但仍然需要改进的成像构件设计，以提 供改进的成像性能和更长的寿命，降低人类和环境健康风险等。本文描述的结构化有机膜(SOF)组合物为特别化学和机械坚固的材料，其显示出 许多优于常规感光器材料的性质，并通过防止由静电印刷过程所导致的化学降解途径而增 加感光器寿命。另外，可将诸如抗氧化剂的添加剂添加至本公开的SOF组合物，以改进含 SOF的成像构件(如感光器)的性质。
技术实现思路
在实施例中提供了一种成像构件，其包括基材、电荷产生层、电荷传输层和任选的 外涂层，其中最外层为包含结构化有机膜(S0F)的成像表面，所述结构化有机膜包含多个片 段(segment)和多个连接体(linker),包括至少一个电活性片段和氟化的第二组分。【附图说明】图1A-O为示例性构造单元的示意图，其中描绘了所述构造单元的对称元素。图2表示掺入了 SOF的一个示例性感光器的简化侧视图。图3表示掺入了 SOF的第二示例性感光器的简化侧视图。图4表示掺入了 SOF的第三示例性感光器的简化侧视图。【具体实施方式】“结构化有机膜”、“ SOF”或“S0F组合物”通常指共价有机骨架(COF)，其在宏观水平上为膜。成像构件可包括包含SOF的最外层，所述SOF包括至少第一电活性片段(如具有空穴传输性质的片段)和任选的第二片段(其可任选地为电活性的)，和氟化的第二组分。SOF可通过一种或多种分子构造单元的反应而制得，其中分子构造单元中的至少一种具有电荷传输分子功能(或者一旦反应，产生具有空穴传输分子功能的片段)。所述分子构造单元可衍生自一种或多种含有碳或硅原子核、烷氧基核、氮或磷原子核、芳基核、碳酸酯核、碳 环核，碳双环核或碳三环核的构造单元；以及含有低聚噻吩核的构造单元。一种或多种分子构造单元可相对于100重量份SOF以约5至约100重量％，如至少约50重量％，或至少约75重量％的百分比分别单独地或完全地存在于在成像构件的最外层中所包含的SOF中。在实施例中，成像构件的最外层可包含S0F，其中在SOF中任何所需量的片段可为电活性的。例如，电活性片段的百分比可大于约10重量％，如大于约30重量％，或大于约50重量％，且电活性片段的上限百分比可为100%，如小于约95重量％，或小于约70重量％。在实施例中，本公开的成像构件和/或感光器的最外层可以以大于SOF的约40重量％，如SOF的约50重量％至约90重量％，或SOF的约60重量％至约80重量％的量，在最外层的SOF中包含第一电活性片段和第二电活性片段。在实施例中，包含于本公开的成像构件和/或感光器的最外层中的SOF可为“耐溶剂”S0F、图案化S0F、封端S0F、复合材料SOF和/或周期性S0F，除非另外特别指出，它们在下文通常统称为“S0F”。术语“耐溶剂”例如指基本上不存在会增加其中掺入SOF的层对溶剂/应力裂化或降解的敏感性的(I)曾经共价键连至SOF和/或SOF组合物(如复合材料S0F)的任何原子和/或分子的任何流失，和/或(2)曾经为SOF和/或SOF组合物(如复合材料S0F)的部分的任何分子的任何相分离。当将封端单元引入SOF中时，在存在封端单元之处SOF骨架被局部“中断”。“基本上不含针孔的S0F”或“不含针孔的S0F”可由在下方基材的表面上沉积的反应混合物形成。术语“基本上不含针孔的S0F”指每平方cm基本上不含大于两个相邻片段的核之间的距离的针孔、孔隙或间隙的S0F，或每cm2含有小于10个直径大于约250纳米的针孔、孔隙或间隙的S0F。术语“不含针孔的S0F”指每微米2不含大于两个相邻片段的核之间的距离的针孔、孔隙或间隙的S0F，或每微米2不含直径大于约500埃的针孔、孔隙或间隙的 SOF。分子构造单元需要至少两个官能团(X ^ 2)，并可包含单个类型或者两个或更多个类型的官能团。分子构造单元对称性涉及官能团(Fg)围绕分子构造单元片段的周边的设置。由于如下两个原因而进行对称构造单元的使用:(1)由于规则形状的连接在框架化学中是一种更好理解的过程，因此可更好地预期分子构造单元的型式，以及(2)由于可采用更少的对称构造单元不定构象/取向(其可能在SOF内引发许多连接缺陷)，因此可促进分子构造单元之间的完全反应。图1A-O示出描绘了其对称元素的示例性构造单元。在可使用的构造单元中存在这种对称元素。这种示例性构造单元可为氟化的或不为氟化的。官能团为在SOF形成过程中参与将片段连接在一起的化学反应的分子构造单元的反应性化学部分。官能团的例子包括卤素、醇、醚、酮、羧酸、酯、碳酸酯、胺、酰胺、亚胺、脲、醛、异氰酸酯、甲苯磺酸酯、烯烃、炔烃等。片段为支撑官能团的分子构造单元的部分，并包含与官能团不相关的所有原子。SOF包含排列为具有多个孔隙的共价有机骨架(COF)的多个片段和多个连接体，所述多个片段包括至少第一片段类型，所述多个连接体包括至少第一连接体类型，其中所述第一片段类型和/或第一连接体类型包含不为碳的至少一个原子。SOF的片段(包含于构成SOF的多个片段中的一种或多种片段类型)包含不为碳的元素的至少一个原子，如片段的结构包含选自氢、氧、氮、硅、磷、硒、氟、硼和硫的至少一个原子。连接体为当发生存在于分子构造单元和/或封端单元上的官能团之间的化学反应时在SOF中出现的化学部分。连接体可包含共价键、单个原子，或一组本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成像构件，其包括：基材；电荷产生层；电荷传输层；和任选的外涂层，其中最外层为包含结构化有机膜（SOF）的成像表面，所述结构化有机膜包含多个片段和多个连接体，包括至少一个电活性片段和尺寸在100nm至5000nm范围内的氟化的第二组分。

【技术特征摘要】
2012.08.10 US 13/5719331.一种成像构件，其包括:基材；电荷产生层；电荷传输层；和任选的外涂层，其中最外层为包含结构化有机膜(SOF)的成像表面，所述结构化有机膜包含多个片段和多个连接体，包括至少一个电活性片段和尺寸在IOOnm至5000nm范围内的氟化的第二组分。2.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述氟化的第二组分选自聚四氟乙烯 (PTFE)，全氟烷氧基聚合物(PFA)，四氟乙烯(TFE)和六氟丙烯(HFP)的共聚物，六氟丙烯 (HFP)和偏二氟乙烯(VDF)的共聚物，六氟丙烯(HFP)和偏二氟乙烯(VF2)的共聚物，四氟乙烯(TFE)、偏二氟乙烯(VDF)和六氟丙烯(HFP)的三元共聚物，以及四氟乙烯(TFE)、偏二氟乙烯(VF2)和六氟丙烯(HFP)的四元共聚物，以及它们的混合物。3.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述氟化的第二组分包含聚四氟乙烯(PTFE) 粒子。4...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·J·维拉，M·A·霍伊夫特，NX·胡，
申请(专利权)人：施乐公司，
类型：发明
国别省市：