器械再处理机和器械再处理方法技术

本发明专利技术公开了一种用于对医疗器械进行清洁、消毒和/或灭菌的器械再处理机。为了对具有限定于其中的一个或多个通道的器械进行再处理，所述再处理机可包括一个或多个流量控制系统，所述系统被配置成控制流体通过每个通道的流量。在各种实施例中，流量控制系统可包括压差传感器和用于控制通道中的所述流体流动的比例阀。所述再处理机还可包括：其一，流体循环泵，其可被配置成为所述流量控制系统供应流体，以及其二，系统，其用于控制被供应给所述流量控制系统的所述流体的压力。所述再处理机还可包括用于向所述流体循环系统供应定量的流体的系统。所述系统可包括具有流体高度传感器的贮存器以监测其中的所述流体量，以及被配置成为所述贮存器供应流体的泵。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】器械再处理机和器械再处理方法
技术介绍
I.
本专利技术整体涉及医疗器械的再处理、清洁、灭菌和/或净化。II.相关领域的描述在各种情况下，内窥镜可以包括细长部或管，其具有可以被配置成插入患者体内的远端，并另外包括贯穿细长部的多个通道，其可以被配置成将水、空气和/或任何其他合适的流体导入手术部位。在一些情况下，内窥镜中的一个或多个通道可以被配置成将手术器械引导进手术部位。在任何情况下，内窥镜还可以包括近端，其具有与通道流体连通的入口，并另外包括具有一个或多个阀和/或开关的控制头部分，其被配置成控制流体通过通道的流动。在至少一种情况下，内窥镜可以包括空气通道、水通道和在控制头内被配置成控制空气和水流动通过通道的一个或多个阀。净化系统可以用来再处理先前使用的医疗装置，诸如内窥镜，以使得医疗装置可以再次使用。存在用于再处理内窥镜的多种净化系统。通常，这种系统可包括至少一个冲洗水池，待清洁和/或消毒的内窥镜可以置于其中。冲洗水池通常由外壳支撑，外壳为了将清洁和/或消毒剂导向已置于水池中的内窥镜之中和/或之上而支撑管路、泵和阀的循环系统。在净化过程中，可以评估内窥镜内的通道，以核实通道未被阻塞。在各种实施例中，循环系统可通过连接器流体联接到内窥镜通道，这些连接器可释放地接合可限定通道末端的端口。此类连接器可在附接到内窥镜的同时实现不透流体的密封，然而它们又可在净化过程结束时容易地释放。上述讨论不应当视为对权利要求范围的否定。
技术实现思路
在至少一种形式中，用于清洁医疗器械的器械再处理机可包括被配置成容纳医疗器械的腔室、再处理流体的供应装置、与再处理流体的供应装置流体连通的供应泵（其中供应泵包括正排量泵）以及与供应泵流体连通的贮存器，其中贮存器包括顶部和底部，并且其中贮存器可包括顶部和底部之间的再处理流体高度。器械再处理机还可包括在贮存器顶部和贮存器底部之间延伸的线性传感器，其中线性传感器被配置成检测再处理流体高度；以及另外与线性传感器进行信号通信的处理器，其中处理器被配置成当再处理流体高度低于预定高度时操作供应泵，并且其中预定高度介于贮存器顶部和贮存器底部之间。器械再处理机还可包括与贮存器底部和腔室流体连通的分配泵，其中分配泵包括正排量泵，并且其中处理器被配置成操作分配泵。在至少一种形式中，一种控制再处理流体通过具有至少第一通道和第二通道的器械的流动的方法可包括以下步骤：操作与再处理流体源流体连通的泵；使再处理流体流过包括第一阀和第一压差传感器的第一流体回路，其中第一流体回路与泵和第一通道流体连通；以及使再处理流体流过包括第二阀和第二压差传感器的第二流体回路，其中第二流体回路与泵和第二通道流体连通。该方法还可包括以下步骤：利用第一压差传感器检测流入第一阀内的再处理流体中的第一压差，利用第二压差传感器检测流入第二阀内的再处理流体中的第二压差，利用来自第一压差传感器的输出调节第一阀以控制再处理流体通过第一通道的第一流量，以及利用来自第二压差传感器的输出调节第二阀以控制再处理流体通过第二通道的第二流量。在至少一种形式中，用于清洁包括通路的医疗器械的器械再处理机可包括被配置成容纳医疗器械的腔室、被配置成与通路流体联接的供应连接器、被配置成对再处理流体加压并且向供应连接器供应再处理流体的泵（该泵包括入口和出口）以及表压传感器，该表压传感器被设置成感测从泵出口流出的再处理流体的表压。该器械再处理机还可包括流量控制系统，该系统包括与供应连接器流体连通的阀，其中阀被配置成控制再处理流体通过通路的流量，并且其中阀包括入口和出口。器械再处理机还可包括压差传感器，该压差传感器被配置成感测固定孔口相对侧上的再处理流体中的压降，其中压差传感器定位在相对于表压传感器的下游以及相对于阀出口的上游；以及与压差传感器进行信号通信的处理器，其中处理器被配置成基于压降解读流量并且命令阀进行至少部分闭合和至少部分打开中的至少一个。在至少一种形式中，一种利用监测系统保持用于器械再处理机的流体循环系统的供应贮存器内的再处理流体的容积的方法可包括以下步骤：自再处理流体源向供应贮存器供应一定量的再处理流体，感测供应贮存器中的所述一定量的再处理流体，以及确定供应贮存器中的所述一定量的再处理流体是否多于预定量。该方法还可包括以下步骤：如果供应贮存器中的所述一定量的再处理流体少于预定量，操作正排量充填泵以向供应贮存器供应再处理流体，其中正排量充填泵被配置成每冲程供应固定容积的再处理流体；操作正排量充填泵时监测供应贮存器中的所述一定量的再处理流体，确定供应贮存器中的所述一定量的再处理流体所增加的再供应容积是否等于每冲程所排开的容积和正排量充填泵的冲程数的乘积，以及在供应贮存器中的所述一定量的再处理流体未增加再供应容积时播送警示。在至少一种形式中，一种控制再处理流体通过包括通道的器械的流动的方法可包括以下步骤：操作与再处理流体源流体连通的泵，测量从泵流出的再处理流体的表压，调整再处理流体的流动以调整再处理流体的表压，以及使再处理流体流过包括阀和压差传感器的流体回路，其中流体回路与泵和通道流体连通。该方法还可包括以下步骤：利用压差传感器检测流入阀内的再处理流体中的压差，以及利用来自压差传感器的输出调节阀以控制再处理流体通过通道的流量。在至少一种形式中，一种控制再处理流体流过具有至少第一通道和第二通道（其中第一通道由参数的第一值限定，并且第二通道由参数的第二值限定）的器械的流动的方法可包括以下步骤：初始化与再处理流体源流体连通的泵以开始操作循环；向包括第一阀的第一流体回路供应再处理流体，其中第一流体回路与泵和第一通道流体连通；以及向包括第二阀的第二流体回路供应再处理流体，其中第二流体回路与泵和第二通道流体连通。该方法还可包括以下步骤：调节第一阀以限制再处理流体流过第一通道的流动，其中再处理流体的流量受到基于参数的第一值和参数的第二值之间的差值的量的限制，由此当泵初始化时再处理流体流过第一通道和第二通道。上述讨论不应当视为对权利要求范围的否定。附图说明通过结合附图来参考本专利技术实施例的以下说明，本专利技术的特征及优点及其获取方法将会变得更加明显，并可更好地理解专利技术本身，其中：图1为根据至少一个实施例的内窥镜再处理机的透视图，所述再处理机包括两个水池；图2为图1的内窥镜再处理机的水池的透视图；图3为图1的内窥镜再处理机的通道流子系统的示意图；图3A为用于控制流过其中的流体的压力的通道流子系统的示意图；图4为包括多个流量控制单元的歧管组件的透视图；图5为图4的歧管组件的歧管的透视图；图6为流量控制单元的透视图，该流量控制单元被配置成控制流体流过内窥镜通道供应管线的流量；图7为图6的流量控制单元的比例阀的透视图；图8为图7的比例阀被移除的图6的流量控制单元的透视图；图9为图6的控制单元的子组件的透视图，该子组件包括印刷电路板(PCB)组件、表压传感器和两个压差传感器；图10为图9的控制单元的压差传感器的透视图。图11为图9的控制单元的表压传感器的透视图；图12为流体递送系统的透视图；图13为图12的流体递送系统的俯视图；图14为图12的流体递送系统的剖面正视图；图15为图12的流体递送系统的正视图；图16为图12的流体递送系统的示意图；以及图17示出了定位在图2的水池的内窥镜托架本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种控制再处理流体通过具有至少第一通道和第二通道的器械的流动的方法，所述方法包括以下步骤：操作与再处理流体源流体连通的泵；使所述再处理流体流动通过包括第一阀和第一压差传感器的第一流体回路，其中所述第一流体回路与所述泵和所述第一通道流体连通；利用所述第一压差传感器检测流入所述第一阀中的所述再处理流体中的第一压差；利用来自所述第一压差传感器的输出调节所述第一阀以控制再处理流体通过所述第一通道的所述第一流量；使所述再处理流体流动通过包括第二阀和第二压差传感器的第二流体回路，其中所述第二流体回路与所述泵和所述第二通道流体连通；利用所述第二压差传感器检测流入所述第二阀中的所述再处理流体中的第二压差；以及利用来自所述第二压差传感器的输出调节所述第二阀以控制再处理流体通过所述第二通道的所述第二流量；其中调节所述第一阀的所述步骤包括调节第一可变阀孔口，并且其中调节所述第二阀的所述步骤包括调节第二可变阀孔口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.10.21 US 13/278,8741.一种控制再处理流体通过具有至少第一通道和第二通道的器械的流动的方法，所述方法包括以下步骤：操作与再处理流体源流体连通的泵；使所述再处理流体流动通过包括第一阀和第一压差传感器的第一流体回路，其中所述第一流体回路与所述泵和所述第一通道流体连通；利用所述第一压差传感器检测流入所述第一阀中的所述再处理流体中的第一压差；利用来自所述第一压差传感器的输出调节所述第一阀以控制再处理流体通过所述第一通道的第一流量；使所述再处理流体流动通过包括第二阀和第二压差传感器的第二流体回路，其中所述第二流体回路与所述泵和所述第二通道流体连通；利用所述第二压差传感器检测流入所述第二阀中的所述再处理流体中的第二压差；以及利用来自所述第二压差传感器的输出调节所述第二阀以控制再处理流体通过所述第二通道的第二流量；其中调节所述第一阀的所述步骤包括调节第一可变阀孔口，并且其中调节所述第二阀的所述步骤包括调节第二可变阀孔口。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：测量所述第一流体回路中的所述再处理流体的第一表压；将所述第一表压与第一最大压力进行比较；以及如果所述第一表压超出所述第一最大压力，则闭合所述第一阀以停止流体通过所述第一流体回路的流动。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：将所述第一流量与第一目标流量进行比较；以及如果所述第一流量高于所述第一目标流量，则至少部分地闭合所述第一阀，或如果所述第一流量低于所述第一目标流量，则至少部分地打开所述第一阀；将所述第二流量与第二目标流量进行比较；以及如果所述第二流量高于所述第二目标流量，则至少部分地闭合所...

【专利技术属性】
技术研发人员：NN阮，U布豪米克，H威廉斯，
申请(专利权)人：伊西康公司，
类型：发明
国别省市：美国;US