一种铬钢研磨剂的制备方法技术

技术编号:10126740 阅读:127 留言:0更新日期:2014-06-12 18:43
本发明专利技术涉及一种铬钢研磨剂的制备方法,属于研磨剂领域。发明专利技术提供一种铬钢研磨剂的制备方法,包括原料称量、分散、过滤和再分散的步骤。利用该方法制备的研磨剂主要为用于研磨铬钢轴承套圈的研磨剂。该研磨剂具有研磨效率高,其研磨效率提高了30%~50%,且对陶瓷本体污染少,提高研磨效率、减少研磨时间。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及,属于研磨剂领域。专利技术提供,包括原料称量、分散、过滤和再分散的步骤。利用该方法制备的研磨剂主要为用于研磨铬钢轴承套圈的研磨剂。该研磨剂具有研磨效率高,其研磨效率提高了30%~50%,且对陶瓷本体污染少,提高研磨效率、减少研磨时间。【专利说明】
本专利技术涉及,属于研磨剂领域。
技术介绍
球轴承是滚动轴承的一种,球滚珠装在内钢圈和外钢圈的中间,能承受较大的载荷。其中,陶瓷球轴承因其独特的特点及广泛的应用领域而备受关注。目前,应用较多的为氮化硅陶瓷球轴承。它的优点是:极限转速高、精度保持性好、启动力矩小、陶瓷球轴承刚度高、干运转性好、寿命长,非常适合于在高速、高温以及腐蚀、辐射条件下保持高精度、长时间运转。氮化硅陶瓷球轴承的套圈一般采用铬钢材料制成,由于氮化硅陶瓷球轴承一般用于高速旋转的工作环境下,同时对其运行精度要求高,为了稳定运行,需要其内外套圈具有较低的粗糙度。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供,利用该方法制备的研磨剂主要为用于研磨铬钢轴承套圈的研磨剂,该研磨剂主要包含高强度的氧化铝颗粒、分散剂、研磨助剂和分散助剂。该研磨剂具有研磨效率高,对陶瓷本体污染少,提高研磨效率、减少研磨时间。,包括下述工艺步骤:①原料称量:按比例精确称量粉末原料,并过滤;`②分散:将三聚磷酸钠、十二烷基磺酸钠和硅酸钠按比例混合均匀后溶于分散剂;③过滤:将步骤②所得浆料过滤,去除大颗粒后加入氧化铝颗粒;④再分散:将步骤③所得浆料进行超声分散至均匀。其中,所述原料按质量百分比,由下述组分组成:【权利要求】1.,其特征在于:包括下述工艺步骤: ①原料称量:按比例精确称量粉末原料,并过滤; ②分散:将三聚磷酸钠、十二烷基磺酸钠和硅酸钠按比例混合均匀后溶于分散剂; ③过滤:将步骤②所得浆料过滤,去除大颗粒后加入氧化铝颗粒; ④再分散:将步骤③所得浆料进行超声分散至均匀; 其中,所述原料按质量百分比,由下述组分组成: 2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述分散剂为乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、甘油中的至少一种。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述氧化铝颗粒的圆球度为0.5~0.75。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于:所述氧化铝颗粒的圆球度为0.6~0.75。5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述氧化铝颗粒的粒度为100~200μm。6.根据权利要求1所述的方法其特征在于:所述氧化铝颗粒的粒度为5~50μ m。7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述氧化铝颗粒的粒度为0.1~5μm。8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述原料,按质量百分比,由下述组分组成: 9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于:所述原料,按质量百分比,由下述组分组成:铽化11_粒36%分敗剂60%磷酸¥钙1.5%:聚磷酸_1%十::烷坫磺酸_1%砟酸钠0.5%c·【文档编号】C09K3/14GK103849354SQ201210496226【公开日】2014年6月11日 申请日期:2012年11月28日 优先权日:2012年11月28日 【专利技术者】李东炬 申请人:大连大友高技术陶瓷有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铬钢研磨剂的制备方法,其特征在于:包括下述工艺步骤:①原料称量:按比例精确称量粉末原料,并过滤;②分散:将三聚磷酸钠、十二烷基磺酸钠和硅酸钠按比例混合均匀后溶于分散剂;③过滤:将步骤②所得浆料过滤,去除大颗粒后加入氧化铝颗粒;④再分散:将步骤③所得浆料进行超声分散至均匀;其中,所述原料按质量百分比,由下述组分组成:其中,氧化铝颗粒的粒度为0.1~200μm,所述氧化铝颗粒为球形,其圆球度至少为0.5。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李东炬
申请(专利权)人:大连大友高技术陶瓷有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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