清洁设备制造技术

一种用于清洁工件（202、204、206）的设备（200），其具有清洁装置，尤其是用于向工件204加载清洁流体的清洁装置（218、240）。在设备中存在用于检测在设备中进行清洁之前的工件（204）的例如初始污染度形式的（第一）污染状态（S1）的装置（254），和/或用于检测在设备中清洁过的工件（208）的例如残余污染度（S2）形式的（第二）污染状态（S2）的装置（254）。设备（200）包含组件（130、266），该组件测定设备运行状态（A、B、C）和/或以依赖于针对工件（108、208）检测到的第一和/或第二污染状态（S1、S2）的方式调整设备中的清洁过程的至少一个过程参数（P）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洁设备
本专利技术涉及一种用于清洁工件的设备。此外，本专利技术还涉及一种用于监测用于清洁工件的设备的方法，以及一种用于控制用于在这种设备中清洁工件的至少一个过程参数的方法。
技术介绍
在本专利技术的意义上，工件可以是任意的对象，尤其是用于复杂系统的构件或者由多个构件组成的组件。污物颗粒，尤其是切削物、灰尘、铸沙或者液滴可能损害工业化制成的产品(像例如用于内燃机的喷油嘴)的功能。因此，在工业化生产过程中的工件的清洁度具有重大意义。因此，在工业化生产中应用用于清洁工件的设备。在这种清洁设备中，利用流体，尤其是利用液体，像例如优选掺有清洁添加剂的水，或者利用含有碳氢化合物的液体来清洁工件。为了清洁工件，还使用气态流体，例如压缩空气。在清洁设备中使用的清洁流体通常要进行循环。清洁流体在工业化设备中在经常是好几个月的时间段上使用。循环的清洁流体的清洁作用在一般情况下不是恒定的。它尤其依赖于在清洁工件时带入清洁流体中的微粒状以及膜状(filmisch)的杂质。清洁流体的杂质导致清洁效果变差。也因为利用成本高的去污系统不能完全去除掉杂质，所以在常规的清洁设备中常见的是，针对流体流量操控用于使清洁本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于清洁工件（102、104、106、202、204、206）的设备（100、200），所述设备具有清洁装置，尤其是用于向工件（104、106、204）加载清洁流体（116、132）的清洁装置（118、144、146、218、240），其特征在于具有用于检测在所述设备中进行清洁之前的工件（104、204）的例如初始污染度形式的（第一）污染状态（S1）的装置（154、254），和/或，用于检测在所述设备中清洁过的工件（108、208）的例如残余污染度（S2）形式的（第二）污染状态（S2）的装置（152、254），以及组件（130、266），所述组件测定设备运行状态（A、B、C）和/或以依赖于...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.09.20 DE 102011083081.2;2012.01.17 DE 1020121.一种用于清洁工件(102、104、106、202、204、206)的设备(100、200)，所述设备具有至少一个清洁站(210、212、214)，所述清洁站具有清洁装置(218、240)，用于向工件(104、106、204)加载清洁流体(116、132)的清洁装置(118、144、146、218、240)，用于检测在清洁之前的输送给所述至少一个清洁站(210、212、214)的工件(204)的初始污染度(S1)的装置(152、252)，用于检测在所述至少一个清洁站中进行清洁之后的工件(208)的残余污染度(S2)的装置(154、254)，以及计算器(170、270)，所述计算器与用于检测初始污染度(S1)的装置(152、252)且与用于检测残余污染度(S2)的装置(154、254)相连，其特征在于，所述用于检测初始污染度(S1)的装置(152、252)和所述用于检测残余污染度的装置(154、254)测定为了冲洗工件(104、108、204、208)在清洁区段(110、210、114、214)中使用的循环穿过过滤装置(128、228)的清洁流体的测量装置(227)的测试体积(312)中的污物颗粒负载，其中，所述计算器(170、270)从工件(208)的初始污染度(S1)与第一阈值(S1S)的连续比较以及工件(208)的残余污染度(S2)与第二阈值(S2S)的连续比较中，当针对相继跟随的工件(108、208)连续测定的残余污染度(S2)基本上保持不变并且持久地以基本上保持不变的量(ΔS2S)超过所述第二阈值(S2S)时，测定设备故障。2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述计算器(170、270)从工件(208)的初始污染度(S1)与第一阈值(S1S)的连续比较以及工件(208)的残余污染度(S2)与第二阈值(S2S)的连续比较中，当连续测定的初始污染度(S1)低于所述第一阈值(S1S)而连续测定的残余污染度(S2)超过所述第二阈值(S2S)时，测定进一步的设备故障。3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述计算器(170、270)从工件(208)的初始污染度(S1)与第一阈值(S1S)的连续比较以及工件(208)的残余污染度(S2)与第二阈值(S2S)的连续比较中，当连续测定的初始污染度(S1)超过所述第一阈值(S1S)并且连续测定的残余污染度(S2)超过所述第二阈值(S2S)时，测定进一步的设备故障。4.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述计算器(270)为了显示测定的设备故障而与警告信号发生器(268)相连。5.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述计算器从针对工件检测到的初始污染度(S1)和检测到的残余污染度(S2)中利用依赖于连续检测到的残余污染度(S2)的函数规则P:＝FS2(S1)计算和调整呈如下形式的设备过程参数(P)：向工件(104、204)加载的清洁流体(116)的温度；向工件(104、204)加载的清洁流体(116)的化学组成；向工件(104、204)加载的清洁流体(116)的压力(p)；向工件(104、204)加载的清洁流体(116)的体积流；工件(104、204)在清洁站(110)中经历清洁过程的时间间隔的长度；为了清洁工件(102、104、106)输入所述清洁流体(116)中的超声波信号的强度；每单位时间输送给所述设备的工件(102、104、106)的数量。6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述计算器(170)利用调节电路基于检测到的残余污染度(S2)与残余污染度额定值(RS)的偏差来测定所述依赖于连续检测到的残余污染度(S2)的函数规则P:＝FS2(S1)，和/或所述函数规则P:＝FS2(S1)作为特性曲线簇存储在所述计算器的数据存储器中。7.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述用于检测残余污染度(S2)的装置(154、254)和/或所述用于检测初始污染度(S1)的装置(152、252)具有用于以光学的方式检测工件(404)的表面(402)的成像系统(400)，并且还包含计算单元(428)，所述计算单元带有用于通过评估工件表面(402)的对比度来识别所述工件(404)的表面(402)上的污物颗粒(426、427)的计算机程序。8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述成像系统(400)包括能引入工件孔中的内窥镜探针(407)，所述内窥镜探针具有用于照亮所述工件孔(406)的壁(412)的光源(408)，并且所述内窥镜探针还包含用于使所述工件孔(406)的壁(412)在光传感器(416)上以光学的方式成像的广角...

【专利技术属性】
技术研发人员：托马斯·克赖斯，赫尔曼约瑟夫·戴维，埃贡·卡斯克，
申请(专利权)人：杜尔艾科克林有限公司，
类型：
国别省市：