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调节和确定氧化层循环位置的方法技术

技术编号:10049200 阅读:110 留言:0更新日期:2014-05-15 19:00
调节和确定氧化层循环位置的方法,涉及煤气的生产方法,调节气化剂蒸气流量和蒸气压力,依据气化效率,确定氧化层循环位置在炉篦以上100-450mm;渣层温度低,氧化层循环位置高,渣层温度高,氧化层循环位置低;维持确定的氧化层循环位置稳定。减少或消除氧化层循环位置底线,高于温度显示的氧化层底线,减少二底线距离波动。改变氧化层循环位置,渣层温度稳定了,气化效率稳定,显示升或降。调节气化剂中蒸气含量的方法。调节氧化层循环位置的方法。氧化层循环的第三个环节探火,时间固定;开气封,炉内煤气压力增量相等。开关气封引起的氧化层变化与氧化层循环同步。本发明专利技术的优点在于,减少结渣,提高、稳定气化效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及煤气的生产方法。
技术介绍
现有技术,没有指出氧化层循环位置,没有调节和确定氧化层循环位置的方法,气化效率低或不稳定。有时氧化层循环位置低,缩短炉篦寿命。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术的目的是提供调节气化剂蒸气流量和蒸气压力,确定氧化层循环位置的方法。为了实现上述目的,本专利技术采取下述技术方案:调节气化剂蒸气流量和蒸气压力,依据气化效率,确定氧化层循环位置在炉篦以上100-450mm,气化剂蒸气含量适当,范围是饱和温度50-65℃对应的气化剂蒸气含量,预热后气化剂温度适当,氧化层循环的第三个环节,预热后气化剂温度范围380-420℃,防止烧坏炉篦,减少结渣,气化效率高;渣层温度低,氧化层循环位置高,渣层温度高,氧化层循环位置低,底部渣层温度范围350-450℃,维持稳定,预热后气化剂温度适当,气化效率高;维持确定的氧化层循环位置稳定,气化剂蒸气含量适当、稳定,预热后气化剂温度适当、稳定,气化效率高、稳定。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.调节和确定氧化层循环位置的方法,其特征在于,包括:
调节气化剂蒸气流量和蒸气压力,依据气化效率,确定氧化层循
环位置在炉篦以上100-450mm;
渣层温度低,氧化层循环位置高,渣层温度高,氧化层循环位置
低;
维持确定的氧化层循环位置稳定。
2.如权利要求1所述的调节和确定氧化层循环位置的方法,其
特征在于:减少或消除氧化层循环位置底线,高于温度显示的氧化层
底线,减少二底线距离波动。
3.如权利要求1所述的调节和确定氧化层循环位置的方法,其
特征在于:改变氧化层循环位置,5h后,气化效率逐步稳定显示升
或降。
4.如权利要求1所述的调节和确定氧化层循环位置的方法,其
特征在于:渣层温度稳定,底部渣层温度降低10℃,氧化层循环位
置升高8-15mm。
5.如权利要求1所述的调节和确定氧化层循环位置的方法,其
特征在于:渣层温度稳定,底部渣层温度升高10℃,氧化层循环位
置降低8-15mm。
6.如权利要求1所述的调节和确定氧...

【专利技术属性】
技术研发人员:王万利
申请(专利权)人:王万利
类型:发明
国别省市:

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