防眩光膜的制备方法技术

技术编号:10009403 阅读:136 留言:0更新日期:2014-05-07 15:59
本发明专利技术涉及一种制备防眩光膜的方法。所述用于制备防眩光膜的方法可以形成防眩光膜,该防眩光膜在各层表现出更加改善的表面粘合力和耐磨性以及优异的防眩光效果。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及一种制备防眩光膜的方法。所述用于制备防眩光膜的方法可以形成防眩光膜,该防眩光膜在各层表现出更加改善的表面粘合力和耐磨性以及优异的防眩光效果。【专利说明】
本专利技术涉及一种用于制备抗反射(ant1-reflective)涂膜的方法。
技术介绍
一般而言,在显示设备例如rop、CRT和IXD上设置抗反射(防眩光膜)以最大限度地减少外部光在该显示设备上的反射。传统的抗反射涂膜一般是通过在光透明性基底上设置抗反射层而形成。在此方面,最广泛使用的抗反射层具有从光透明性衬底依次层压的硬涂层、高折射率层和低折射率层的三层结构。近来,为了简化生产工艺,从抗反射层中省略硬涂层或高折射率层的两层结构已商业化。为了提供防眩目性能和耐刮擦性能,也已经使用了提供有防眩光硬涂层的抗反射涂膜。同时,抗反射涂膜一般通过干法或湿法制备。在上述方法中,干法是通过使用沉积或溅射来层叠多层薄层。该方法提供了薄膜界面处极佳的粘合力,但需要高的生产成本,这成为商用用途的限制。相比之下,湿法是将含有粘合剂、溶剂等的组合物施用到基底上后对其干燥和固化。该方法较之干法成本低,因而广泛地用于商业应用中。然而,在所述湿法中,用于形成硬涂层和高折射率层以及低折射率层所需的组合物应单独制备,并且使用组合物依次形成各个层。因此,生产工艺变得复杂,且在薄膜界面处具有较弱粘合力。为此,已积极地进行许多研究来开发能够通过单次湿涂法形成两层或多层的抗反射涂层组合物。然而,仍存在很多问题,即在制备过程中,施涂组合物时无法合适地发生相分离,因而单层的功能劣化此外,硬涂层或高折射率层通常作为纯粘合剂或作为含有粘合剂和无机纳米颗粒的隔离层而形成在基底上,并且在其上形成分散有中空颗粒(hallowparticle-dispersed)的低折射率层。然而,仍存在的问题为,由于薄膜界面处弱的粘合力,具有该结构的抗反射涂膜因而具有较低的耐久性。
技术实现思路
技术问题本专利技术提供一种用于制备抗反射涂膜的方法,该方法通过简单的工艺能够形成表现出更加改善的界面粘合力和耐刮擦性抗反射涂膜。技术方案本专利技术的一个实施方案,提供一种用于制备抗反射涂膜的方法,其包含以下步骤:提供抗反射涂料组合物,所述组合物包含粘合剂组合物、无机纳米颗粒、中空颗粒、聚合引发剂和溶剂,所述粘合剂组合物含有第一(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量高于第一(甲基)丙烯酸酯基化合物的第二(甲基)丙烯酸酯基化合物;将所述组合物施用至基底的至少一个表面上;干燥所述组合物以使第一(甲基)丙烯酸酯基化合物和无机纳米颗粒的至少一部分渗入基底中;和固化所述组合物以形成对应于所述基底渗入区域的第一层,以及形成覆盖第一层的含有中空颗粒的第二层。其中,中空颗粒的横截面积与第二层的任意横截面积的比例为70至95%。在一个实施方案的制备方法中,所述抗反射涂料组合物可包含5至30重量份的无机纳米颗粒,I至30重量份的中空颗粒、5至25重量份聚合引发剂以及100至500重量份溶剂,基于100重量份所述粘合剂组合物计。此外,第一(甲基)丙烯酸酯基化合物可具有低于600的分子量,且第二(甲基)丙烯酸酯基化合物可具有600至100,000的分子量。此外,所述粘合剂组合物可包含5至30重量份第二(甲基)丙烯酸酯基化合物,基于100重量份第一(甲基)丙烯酸酯基化合物计。第一(甲基)丙烯酸酯基化合物可为一种或多种选自以下的化合物:季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三亚甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、9,9-双芴、双(4-甲基丙烯酰氧基苯硫基)硫醚和双(4-乙烯基苯硫基)硫醚,且第二(甲基)丙烯酸酯基化合物可包含具有通过连接键连接的两个或多个分子的第一(甲基)丙烯酸酯基化合物分子的化合物。在此方面,所述连接键可包含氨基甲酸酯键、硫醚键、醚键或酯键。此夕卜,第二(甲基)丙烯酸酯基化合物可包含具有一个或多个选自以下的取代基的化合物:环氧基、羟基、羧基、硫醇基、具有6个或更多碳原子的芳族烃或脂族烃和异氰酸酯基。此外,所述粘合剂组合物可进一步包括用一个或多个氟原子取代的氟基(甲基)丙烯酸酯化合物。在一个实施方案的制备方法中,所述无机纳米颗粒可具有5至50nm的数均直径,例如,其可为二氧化硅纳米颗粒。此外,所述中空颗粒可具有5至SOnm的数均直径,例如,其可为中空二氧化硅颗粒。此外,所述溶剂可具有20?30的介电常数(25°C),且具有1.7?2.8的偶极矩。有益效果根据本专利技术,所述抗反射涂膜中的两层可通过单次涂布法形成,从而通过简单的方法形成抗反射涂膜。此外,由此形成的抗反射涂膜能够保持更加改善的界面粘合力和耐刮擦性,并表现出优异的抗反射效果,从而其可优选地用作显示设备等中的抗反射涂膜。【专利附图】【附图说明】图1为示出本专利技术一个实施方案的抗反射涂膜的制备方法的流程示意图;图2为示出本专利技术一个实施方案的抗反射涂膜结构的示意性横截面图;以及图3至图6为分别示出本专利技术实施例1、2和4和对比实施例1的抗反射涂膜的横截面的显微图像。参考数字1:基底2:第一层(硬涂层)3:第二层(低折射率层)4:中空颗粒本专利技术的最佳实施方式在下文中,将参考附图描述本专利技术实施方案的抗反射涂膜及其制备方法。首先,除说明书全文另有说明外,本说明书中使用的术语定义如下。首先,术语“无机纳米颗粒”意指由多无机材料制得的颗粒,并且包括具有纳米级数均直径的颗粒,例如具有数均直径为IOOnm或以下的颗粒。这些无机纳米颗粒可为其中基本上没有空腔的无定形颗粒。例如,“二氧化硅纳米颗粒”为由硅化合物或有机硅化合物制得的颗粒,并且意指数均直径为IOOnm或以下且其中没有空腔的硅化合物颗粒或有机硅化合物颗粒。此外,术语“中空颗粒”意指在其表面上或内部有空腔的无机颗粒。例如,术语“中空二氧化硅颗粒”意指由硅化合物或有机硅化合物制得且在该二氧化硅颗粒的表面或内部具有空腔的二氧化硅颗粒。此外,术语“(甲基)丙烯酸酯”定义为包括丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。术语”(甲基)丙烯酸酯”还可限定为不具有含氟取代基,且具有含氟取代基的化合物可以称为氟基(甲基)丙烯酸酯化合物,从而在两者之间区分。此外,术语“涂层”意指通过将下文所述的抗反射涂料组合物施用(涂布)在预定基底膜上而形成的组合物层。此外,术语“相分离”意指由于组分在密度、表面张力或其他物理特性的差别而使组合物中的特定组分与其他组分形成的分布上的差异。本文中,当涂层中发生相分离时,可根据特定组分的分布差异,例如根据中空颗粒的分布差异,形成可区分的至少两层。此外,短语“渗入基底中”意指用于形成抗反射涂膜任意层的组分(例如,用于形成相应层的粘合剂的(甲基)丙烯酸酯基化合物以及无机纳米颗粒等)渗入基底以形成相应层。例如,渗入基底的组分在其已渗入的基底区域中干燥并固化以形成特定的层。相反,短语”在基底上形成层”意指形成相应层的组分基本上不渗入基底中,且其在与基底形成界面的同时干燥并固化,从而在基底上形成层,而不具有通过渗入基底中而形成的与基底的重置区域。此外,短语“层(例如,本专利技术的一个实施方案的第二层)覆盖其他层(例如,该实施方案的第一层)”意指在两层之间基本上没有区别性(disti本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于制备抗反射涂膜的方法,其包含以下步骤:提供抗反射涂料组合物,所述组合物包含粘合剂组合物、无机纳米颗粒、中空颗粒、聚合引发剂和溶剂,所述粘合剂组合物含有第一(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量高于第一(甲基)丙烯酸酯基化合物的第二(甲基)丙烯酸酯基化合物;将该组合物施用至基底的至少一个表面上;干燥所述组合物以使第一(甲基)丙烯酸酯基化合物和无机纳米颗粒的至少一部分渗入基底中;以及固化所述组合物以形成对应于所述基底渗入区域的第一层,以及形成覆盖第一层的含有中空颗粒的第二层,其中,中空颗粒的横截面积与第二层的任意横截面积的比例为70至95%。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:金宪张影来
申请(专利权)人:株式会社LG化学
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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