本发明提供一种能够抑制弯曲的隔膜卷绕体等。隔膜卷绕体(10)是在芯体(8)上卷绕有电池用的隔膜(12)而形成的。在芯体(8)上，沿着其中心轴(CA)设置轴孔(H)。将芯体(8)的直径与轴孔(H)的直径之差除以芯体(8)的中心轴(CA)方...

本发明提供一种高分子化合物，其包含具有以式(1)表示的基团的构成单元。式中，环R1A及环R2A表示芳香族烃环或杂环，这些环可以具有取代基。nA表示0～5的整数，nB表示1～5的整数。LA及LB表示亚烷基、亚环烷基、亚芳基、2价的杂环基、...

本发明提供一种以式(1)表示的金属络合物。式(1)中，M表示铱原子或铂原子，n1表示1～3。n2表示0～2，A1‑G1‑A2表示阴离子性的二齿配体，m1及m2表示3或4，E1～E4表示氮原子或碳原子，R1及R2表示取代基等，但是，R1及...

本发明提供一种偏振板的制造方法，其包括以下工序：在基材膜表面形成聚乙烯醇类树脂层从而得到层叠膜的工序；拉伸层叠膜从而得到拉伸膜的工序；将拉伸膜的聚乙烯醇类树脂层用二色性色素染色而形成偏振器层，由此得到偏振性层叠膜的工序；在偏振器层的与基...

课题：本发明以得到图案形状优异的滤色器为课题。解决方法：本发明的着色固化性树脂组合物含有着色剂、树脂、聚合性化合物以及聚合引发剂，前述着色剂包含染料和颜料，前述聚合引发剂包含下述式(d1)所示的化合物。

本发明提供：一种偏光板，其包含厚度为10μm以下的偏光片，所述偏光板的波长700nm处的吸光度A700与波长450nm处的吸光度A450之比A700/A450为0.85以上；以及一种偏光片及包含所述偏光片的偏光板，所述偏光片的厚度为10...

本发明提供一种偏振板及包含该偏振板的显示装置，该偏振板包含：偏振器、在所述偏振器的一个面上隔着厚度小于2.0μm的第一胶粘剂层层叠的第一保护膜、以及在所述偏振器的另一个面上隔着厚度为2.0μm以下的第二胶粘剂层层叠的第二保护膜，其中，第...

本发明提供一种偏振板的制造方法，其依次包括：贴合工序，向在基材膜的至少一面上具备偏振片层的偏振性层叠膜的偏振片层上，夹隔着胶粘剂层贴合调整为比25℃55％RH时的平衡水分率高的水分率的保护膜；和剥离除去基材膜的工序。

本发明可通过式(1)所示的吡唑化合物的制造方法而在工业上制造吡唑化合物，所述式(1)所示的吡唑化合物的制造方法包括在酸的存在下使式(2)所示的吡唑烷化合物与亚硝酸盐反应的工序。(式(2)中，R1表示可以具有取代基的碳数1～12的烷基、可...

本发明提供一种组合物，其含有：包含具有式(1)所示基团的重复单元的高分子化合物(A)；因电磁波或电子射线的照射、或者加热而分解产生酸的化合物(B)；和在酸的存在下与羟基反应的化合物(C)。[式中，R表示在酸的作用下从氧原子脱离时的活化能...

加工稳定剂，其包含式（I）所示的化合物和式（II）所示的化合物，相对于式（I）所示的化合物100质量份，式（II）所示的化合物的含量为0.005~10质量份。（R1、R2、R4和R5表示氢原子、烷基、环烷基、烷基环烷基、芳烷基或苯基，R...

本发明提供一种2‑(卤代甲基)‑1‑甲基‑3‑硝基苯的制造方法，其通过使式(3)所示的化合物与氢在非均相过渡金属催化剂的存在下反应而选择性地将1位的卤素还原，从而可以制造式(1)所示的2‑(卤代甲基)‑1‑甲基‑3‑硝基苯。

将作为不具有源于乙烯基单体的构成单元的多元醇的成分（A）、下述高分子（B－1）和下述高分子（B－2）进行热处理而得的蓄热材料组合物具有优异的形状保持性和耐渗出性。高分子（B－1）：以源于丙烯酸或其盐的构成单元为主体的高分子、以源于甲基丙...

蜂窝过滤器（100）具备柱体，该柱体具有沿着轴向延伸的多个入口侧流路（第一流路70Hin）、多个出口侧流路（第二流路70Hout）、以及将邻接的流路之间分隔的分隔壁（W）。柱体的一端面中的各入口侧流路（70Hin）的截面积比轴向的中央部...

本发明提供一种用于制备由多能干细胞诱导分化的睫状缘区干细胞的方法，所述方法包括下述步骤(1)或步骤(2)或两者：(1)悬浮培养从由多能干细胞诱导分化的含有睫状缘区样结构的细胞团聚体获得的细胞而获得视网膜球体的步骤；和(2)从获得自由多能...

本发明提供一种光学层叠体，其依次包含光学膜、粘合剂层、和金属层，粘合剂层由含有(甲基)丙烯酸系树脂(A)、硅烷化合物(B)、以及离子性化合物(C)的粘合剂组合物构成，硅烷化合物(B)为以式(I)表示的硅烷化合物，并提供包含该光学层叠体的...

本发明提供一种光学层叠体，其依次包含光学膜、粘合剂层、和金属层，金属层为金属布线层，粘合剂层由含有(甲基)丙烯酸系树脂(A)、异氰酸酯系交联剂(B)、硅烷化合物(C)、以及以式：M+X-(M+表示无机阳离子，X-表示含有氟原子的阴离子。...

本发明的课题涉及提供一种可以制造形状良好并且抗裂性良好的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的目的。其解決手段为抗蚀剂组合物，其含有：具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂。[式中、Ri41为氢原子或甲基；Ri42...

本发明的课题的目的是提供能够制造具有优异的形状、从曝光到加热处理为止的后曝光放置时间(PED)所引起的抗蚀图案尺寸变化小的抗蚀图案的抗蚀剂组合物。其解决手段为一种抗蚀剂组合物，含有：含式(I)表示的结构单元的树脂、碱溶性树脂、产酸剂和溶...

本发明涉及一种偏振片，其在偏振膜的至少一面具备保护膜，其中，所述偏振膜的每单位膜厚的戳穿强度为5.8gf/μm以上，将所述偏振片的端面进行切削加工。