株式会社超级纳米设计专利技术

株式会社超级纳米设计共有2项专利

  • 针对AlN、TiN、Si3N4、SiC等具有各种分子结构的原料粒子,通过能够对原料粒子的整个表面以通用的方法均匀地进行有机修饰,可简单地提供进一步提高了在溶剂中的分散性的有机修饰无机微粒。本发明为有机修饰无机微粒的制备方法。该方法包括在...
  • 本发明的目的在于稳定且高效提供具有高有机修饰率的氮化硼粒子。本发明的连续制备方法包括接触工序:连续供给经预处理的氮化硼和有机修饰剂,与处于亚临界状态的水系材料在酸或碱的共存下连续接触。预处理包括选自下述处理的任一种以上,即:对氮化硼加酸...
1