本发明公开了一种化学反应装置，包括反应池本体，所述反应池本体外侧设置有电极柜和控制柜，所述电极柜和控制柜分别位于反应池本体的两侧，所述电极柜与控制柜顶部之间固定连接有支撑机架，所述支撑机架底部固定连接有电极线圈连接架，所述电极线圈连接架...

本发明公开了一种电镀装置，包括电镀发生槽，电镀发生槽内部的左右两侧均设置有调节滑槽，调节滑槽内部的竖向位置滑动连接有电极搭载机构，调节滑槽内部的正面和背面均匀固定连接有电极杆，电镀发生槽内部底端的中间位置固定连接有引导内槽，引导内槽内部...