本申请提供一种光刻胶喷嘴清洁装置，包括主体，主体上开设有多个清洁孔，多个清洁孔沿主体的长度方向等间隔分布，主体的至少一端设置有手柄。本申请提供的光刻胶喷嘴清洁装置每次可以同时对涂胶显影机同一层的多个光刻胶喷嘴进行清洁，从而能够提高对涂胶...

一种静电放电保护电路、半导体结构及其形成方法，其中，静电放电保护电路包括：第一三极管结构，所述第一三极管结构的发射极与外部电路相连接；第二三极管结构，所述第二三极管结构的基极与第一三极管结构的集电极相连接，所述第二三极管结构的发射极接地...

一种电迁移监控器件结构、其形成方法及其监控方法，其中，电迁移监控器件结构包括：衬底；位于所述衬底上的电迁移结构；与电迁移结构两端分别电连接的第一衬垫和第二衬垫，所述第一衬垫通过第一电连接层与电迁移结构电连接，所述第二衬垫通过第二电连接层...

本申请提供一种显影液喷吐量称量装置，所述称量装置包括：显影液喷嘴，被配置为喷吐显影液；称量工具，设置于所述显影液喷嘴正下方；升降装置，与所述显影液喷嘴相连，被配置为控制所述显影液喷嘴升降；距离传感器，设置于所述称量工具面向所述显影液喷嘴...

本申请涉及一种半导体结构的形成方法，所述方法包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底中形成有深沟槽；使用原子层沉积工艺在所述深沟槽的底部和侧壁形成第一隔离层；使用化学气相沉积法在所述第一隔离层表面形成第二隔离层，所述第一隔离层和第二隔离层填...