本申请公开一种光刻设备，该光刻设备包括龙门架及气浮平台，该气浮平台上设置有样品台，该样品台用于放置待曝光的光栅；该龙门架环设于气浮平台，该龙门架的顶部横梁上悬设有X/Y模组，该X/Y模组具有连接端，该连接端安装有机械臂，该机械臂用于从进...

本申请公开一种V型走向体光栅批量曝光装置及曝光控制方法。曝光装置包括：光源、分束器、第一反射镜、第二反射镜、传输装置及载物台，所述传输装置包括第一传输部件及第二传输部件，其组合呈V型，载物台设置于所述第一传输部件及第二传输部件的端部侧并...