本发明公开了一种陶瓷地砖原料生产可增压的喷射机构，属于陶瓷地砖生产设备技术领域。一种陶瓷地砖原料生产可增压的喷射机构，包括搅拌桶，搅拌桶内设有用于搅拌原料的搅拌机构，搅拌机构上设有用于吸出原料的吸出机构，吸出机构上设有用于吸附粉尘的吸附...

本发明公开了一种陶瓷加工用瓷胚均匀干燥设备，属于陶瓷加工技术领域。一种陶瓷加工用瓷胚均匀干燥设备，包括烘干箱，隔板上设有扰流机构，扰流机构上设有翻转机构，翻转机构上设有擦除机构，擦除机构上设有降温机构；本发明通过设置扰流机构使得烘干箱内...

本发明公开了一种日用陶瓷加工用可快速固定的上釉装置，包括上釉壳体，所述上釉壳体的底部固定连接有凸出的高台，低于所述高台的所述上釉壳体底部设置有盛放釉液的釉液池，所述上釉壳体的外部分别开设有进料口和出料口，所述高台的上部设置有上釉机构，所...