本实用新型公开一种连续式车灯玻璃镀膜装置，包括呈直连续式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后一个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有镀膜室；进片室的进片口处设有第一真空锁，出片室的出片口处设有...

本实用新型公开一种磁控溅射靶，包括摆动磁芯和转动靶材，摆动磁芯和转动靶材均为圆柱形结构，摆动磁芯设于转动靶材中部，转动靶材外周通过靶座与真空室壳体连接；转动靶材顶部设有靶材驱动组件，摆动磁芯顶部设有磁芯驱动组件。本磁控溅射靶是在传统的圆...

本实用新型公开一种双坩埚电子枪，包括热源、两个旋转坩埚、底板、水冷机构和驱动机构，两个旋转坩埚分别设于热源的两侧，热源底部与水冷机构连接，底板设于热源和两个旋转坩埚下方，水冷机构下方与驱动机构连接。本双坩埚电子枪通过设置两个旋转坩埚，通...

本实用新型公开一种固定式掩模机构，包括掩模架、收丝盘和放丝盘，掩模架为四边形结构，掩模架相对的两侧边上设有多个缠绕辊，多个缠绕辊两侧分别设置收丝盘和放丝盘，掩模丝从放丝盘放出后，经过多个缠绕辊缠绕固定，掩模丝的末端缠绕于收丝盘上。本固定...

本实用新型公开一种双片或双面镀膜系统，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后一个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少一个镀膜室；镀膜室位于工件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，...

本实用新型公开一种双片镀膜用的工件输送装置，包括清洗机输送台、合叶架和工件架，按照玻璃的输送方向，清洗机输送台、合叶架和工件架依次设置，工件架的输出端为真空室；清洗机输送台与合叶架之间设置双片传送机构，合叶架上设有上拉铰链机构。本双片镀...

本发明公开一种自动循环等离子气相沉积系统，包括预热室、至少一个等离子气相沉积室、冷却室和清洗室，预热室、等离子气相沉积室和冷却室通过第一导轨依次连接，清洗室与冷却室平行设置且底部设置第二导轨，第一导轨的两端分别通过入室导轨和出室导轨与第...

本发明公开一种双片镀膜用的工件输送装置，包括清洗机输送台、合叶架和工件架，按照玻璃的输送方向，清洗机输送台、合叶架和工件架依次设置，工件架的输出端为真空室；清洗机输送台与合叶架之间设置双片传送机构，合叶架上设有上拉铰链机构。本双片镀膜用...

本发明公开一种真空室用的真空插板阀，包括气缸、阀体和阀芯组件，阀体为中空的长方体箱式结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分别开有阀体通孔，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的工件通孔相通，阀芯组件设于...

本发明公开一种真空系统用的真空插板阀，包括驱动元件、阀体、阀芯和下清洁盖板，阀体为中空的长方体结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分别开有阀体通孔，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的工件通孔相通，阀...

本发明公开一种双片或双面镀膜系统，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后一个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少一个镀膜室；镀膜室位于工件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室...

本实用新型公开了一种蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机，镀膜室由两部分组成，一部分是固定不动的共用体，另一部分是可以开合移动的前门，两个前门的中央分别装入旋转磁控柱状弧源，利用柱弧源产生的冷场致弧光放电过程使被镀靶材蒸发，离化进行离子镀膜。...