一包括一对电极的等离子反应发生器，电极由分开并互相面对的两个金属面（４２，３８）组成并在两个金属面之间形成等离子放电腔。一个金属面（３８）成为带有许多输气孔（４４）的金属板的表面。这些输气孔与沿着面对等离子放电腔的金属板延伸的配气室（４...

本发明涉及一种部件及其制造方法，该部件的基片（１）有基本上由铜构成的层（２）。金属丝（３）通过压焊和形成金属间化合物与铜层（２）连接，而且在基本上由铜构成的层（２）上涂敷的硬层（５）在连接区裂开。该硬层至少在８０℃的温度下是稳定的，在此...

一种在基底的表面上分配粘性液体的方法，其包括以下步骤：　　　　将该基底基本上水平地放置在支座上；　　　　向所述基底的表面施加粘性液体；　　　　使该基底旋转，以使液体沿径向向外分配；和　　　　以热方式调节该基底上的液体，以便以特定方式局部...

为使溅射材料的利用率及磁控管溅射源的靶寿命最佳化并且同时使基片覆层具有可良好获得的分布值，在整个靶寿命期间内保持稳定地在这样的布置结构中形成一凹形的溅射面（２０），即该布置结构有较小的靶－基片间距（ｄ）并且还组合有一个用于形成磁控管电子...

用于加工磁控管溅射涂层基底的方法，其中　　　　·在一个具有溅射面的磁控管源上使一个磁控管磁场图样沿着溅射面循环地移动；　　　　·基底与溅射面间隔距离地并在溅射面上方移动，　　　　其特征在于，随着磁场图样的循环运动锁相地、循环地改变单位时...

用于使一个电弧放电设备运行的、包括一个具有一个表面的靶的真空电弧光源，其中所述靶设置在一个磁场发生装置的有效区中，其特征在于，所述磁场发生装置包括至少两个相反极性的磁系统并且这样构成：使得所产生的磁场的垂直于表面的分量Ｂ↓［⊥］在大部分...

用于制造具有通过真空处理过程处理的表面的基片的方法，其中所述表面具有处理结果的预定的表面分布，其特征在于，　　　　－以局部不均匀的密度分布实现等离子体放电；　　　　－使所述基片受到不均匀密度分布的等离子体放电的作用；　　　　－通过以下方...

为了制造真空等离子体处理过的工件，将待处理的工件引入真空室（１）中。由此，在真空室（１）中在至少处于Ｈｆ频率范围中的第一频率（ｆ↓［１］）下建立等离子体放电。在从真空室（１）中移走现在处理过的工件之后，清洁该真空室（１），由此在高于所提...

为了产生一个构成为具有光栅周期在１００ｎｍ至２５００ｎｍ之间的线光栅的耦合光栅，基片（１）被覆盖有光致抗蚀剂层（１０）并且经由折叠式反射镜（１３、１３′）并通过其近场布置有光致抗蚀剂层的相位掩模（１４）以例如Ｌｉｔｈｒｏｗ角（Θ＃－［Ｌ...

建议一种光耦合元件，它具有一个由一种对于给定波长λ的光来说透明的材料制成的表面（３）。为了使光耦合元件的作用与光的矢量大小的方向、尤其如极化的方向无关，在光耦合元件的表面上设有线状的凹造型的或凸造型（５↓［１］，５↓［２］），它们相互等...

一种样品基片，适于使用具有第一波长的荧光激励光。在基底上设置反射器。所述反射器包括具有至少两层的反射多层干涉涂层。并非所有层Ｌ都满足四分之一波条件：ｄ↓［Ｌ］.ｎ↓［Ｌ］＝（２Ｎ＋１）.λ／４，其中ｄ↓［Ｌ］为层Ｌ的物理厚度，ｎ↓［Ｌ］...

一种组装光处理装置的方法，该装置包括多个用来进行反射的分开的壁，并且该装置可以经受高温和加热循环。该方法把一种快速固化的粘接剂施加到要固定到一起的壁的一些部分上。该方法也把壁在一个临时的固定装置中固定一定的时间间隔，这个时间间隔是快速固...

用板料制成的例如色轮用的环形部分的制作方法包括如下步骤：预定的标定折断边这样排列，使稍后要分割的环形部分成列放置，其中，在一列内环形部分相互挨着这样排列，使总有一个环形部分的内圆弧边至少点状接触另一个环形部分的外圆弧边，从而形成共同标定...

用于产生电磁场分布的平台，具有　　　　－一个基片　　　　－一个在基片上设置的结构层，其中该结构层的层厚度由最大的结构深度确定，　　　　－用于把导入的电磁辐射耦合入结构层的耦合介体，以便在结构层内部建立电磁场分布　　　　－在基片和结构层之...

为了在保持超高真空的情况下经济地对元件进行ＣＶＤ处理，这些元件成批地从真空输送室（１３）中被送入一个ＣＶＤ反应器（１）里，它满足了上述条件，该真空输送室将上述ＵＨＶ－ＣＶＤ反应器（１）与一个在前的处理室（１７）连接起来。该处理室（１７）...

用于圆片形工件的溅射镀膜装置，它包含：一个闸室（３），一个溅射源（７），一个运输室（１），一个运输机构（１３），其特征在于：闸室和溅射源（７）的作用面（７ａ），彼此对峙，运输机构（１３）可以被回转驱动地安置在运输室（１）中，而且包含可径...

本发明提出了一种具有一刀体和一耐磨层系的刀具，所述耐磨层系包括至少一层ＭｅＸ。Ｍｅ包括钛和铝，Ｘ是氮或碳。刀具是高速钢（ＨＳＳ）或烧结型硬质合金，但不是整体硬质合金端铣刀及整体硬质合金球头铣刀。在这里，在ＭｅＸ层中，被定义为Ⅰ（２００）...

在制造对其涂覆提出了与在用一外延层进行涂覆时一样的要求的涂覆元器件时，将反应气体通入一处理室（ＰＲ）中并且借助低能等离子放电来激活反应气体。为了提高这种方法的工业实用性，在这里，处理室（ＰＲ）与处于环境中的容器（１）的内壁分隔开（１４）。

本发明涉及一种方法，用于生产以材料处理的衬底，依此法：ａ）至少一个衬底被送入到一个抽空的真空接受器（真空室）中；ｂ）待处理的衬底表面被曝露在一种反应气体下，反应气体被吸附在衬底表面上；ｃ）结束衬底表面在反应气体下的曝露；ｄ）被吸附在衬底...

本发明涉及一种含层体系的工件或构件，该层体系含至少一层组成为（Ａｌ↓［ｙ］Ｃｒ↓［１－ｙ］）Ｘ的层，其中ｘ＝Ｎ、Ｃ、Ｂ、ＣＮ、ＢＮ、ＣＢＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＢＯ、ＣＮＯ、ＢＮＯ或ＣＢＮＯ，并且０．２≤ｙ＜０．７，在层中的层组成基本上是恒定的...