本实用新型公开了一种气动双工位烫画机，包括底座，所述底座的后端设有一立柱，所述立柱端部设有一悬臂，在所述底座的座体上两条滑轨，滑轨上设有可沿该滑轨左右移动的底板，底板上设有硅胶垫，在所述悬臂上设有驱动气缸，驱动气缸的输出轴向下伸出，其前...