本实用新型公开了一种低温多晶硅薄膜的制备装置，该装置基于铜管绕制的平面螺旋线圈在高频射频电源激励下感应耦合产生高密度的等离子体，提高了多晶硅薄膜沉积中反应活性基团的浓度和能量，可在小于350℃的基片温度下高速沉积多晶硅薄膜，最大样品尺寸...

本实用新型公开了一种采用平面螺旋线圈的电感耦合等离子体放电装置，该放电装置主要应用于微电子芯片制造或薄膜化学气相沉积系统。该装置包括：真空室、进气与排气系统、工作台、电感线圈、射频电源及匹配箱。其特征在于：电感线圈内置于真空室，位于工作...