提供了通过原子层沉积形成含金属的膜的方法。该方法包含将至少一种前体基材送递到基材，其中所述至少一种前体在结构上对应于式(II)：其中：M是Hf或Zr；R是C1-C6-烷基；n是零、1、2、3、4或5；L是C1-C6-烷氧基。提供了通过液...

一种固态前体输送组件(200)，所述固态前体输送组件通常包括：容器(202)，该容器具有上部和下部；和被限定在所述容器内的室，所述室包括入口室(238)、出口室(244)以及第一和第二前体室(240，242)。第一和第二前体室构造成用来...

本发明提供通过气相沉积工艺形成含钴薄膜的方法。该方法包括使用对应于式I结构的至少一种前体；其中R1和R2独立地为C2-C8烷基；x为0、1或2；并且y为0或1；其中x和y两者不能同时为0。

提供用于形成含钛膜的组合物和方法。所述组合物包含至少一种选自以下的前体：(甲基环戊二烯基)Ti(NMe2)3、(乙基环戊二烯基)Ti(NMe2)3、(异丙基环戊二烯基)Ti(NMe2)3、(甲基环戊二烯基)Ti(NEt2)3、(甲基环戊...