本发明创造涉及一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置及其应用。采用本装置，激光源将光束直接照射到基体表面待生长薄膜和/或涂层的区域上，将待生长薄膜和/或涂层的区域的表面加热到设定温度；控制装置控制气体喷出装置的气体出口与待生长薄膜和/或涂层...

本实用新型创造涉及一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置。采用本装置，激光源将光束直接照射到基体表面待生长薄膜和/或涂层的区域上，将待生长薄膜和/或涂层的区域的表面加热到设定温度；控制装置控制气体喷出装置的气体出口与待生长薄膜和/或涂层的区...