本发明提供一种溅射膜沉积源，该溅射膜沉积源在沉积绝缘体膜时能够显著地减少对膜沉积体的损坏并防止阳极消除效应，从而以低成本长时间稳定地沉积绝缘体膜，并提供一种使用该溅射膜沉积源的膜沉积装置。技术方案：溅射膜沉积源包括：靶材（1A，1B）；...