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相干激光系统有限公司专利技术
相干激光系统有限公司共有15项专利
用于激光退火的方法和装置制造方法及图纸
通过形成均匀线光束(20)的多个激光束(14A‑14D)中的脉冲对衬底(24)上的层(22)进行激光退火。激光束(14A‑14D)被分成第一组光束(14A、14D)和第二组光束(14B、14C)。第二组光束(14B、14C)从比所有光束...
利用紫外线透射粘合剂和激光剥离的微电子器件转移制造技术
用于微电子器件(110)的衬底间转移的方法,包括:将聚合物涂层(120)施加到位于第一衬底(140)上的微电子器件(110)的顶表面(110T),将紫外线透射粘合剂(130)沉积到第二衬底(142)上,使微电子器件(110)的聚合物涂覆...
用于热致动可变形镜的装置及相关制造方法制造方法及图纸
用于热致动可变形镜(170)的装置包括整体块(100),该整体块包括:具有形成或配置成支撑镜(170)的前面(122F)的镜板(120)、底座(140)、以及可热膨胀致动器(130)的一维阵列。可热膨胀致动器(130)将镜板(120)的...
利用自适应光学器件和中场监测的激光束波前校正制造技术
用于校正激光束(180)的波前(182)的系统包括:分束器(120),用于分离激光束(180)的部分以用作诊断光束(180D);聚焦元件(140),用于将诊断光束(180D)聚到焦点;测量子系统(150),用于测量诊断光束(180D)在...
激光加工脆性材料的可控分离制造技术
公开一种用于从由脆性材料制成的工件(12)切割和分离物品(102)的方法。该方法使用直形和圆形脱模特征(112A,112B),其布置成在物品(102)轮廓中靠近每个内部曲线的废料(104)中引起受控的开裂。第一脉冲激光束(14)沿着物品...
二次谐波产生的晶体制造技术
光学器件(10)从可见激光辐射束产生紫外激光辐射束,并在空间上将紫外激光束与可见激光束分开。光学器件(10)包括沿着平面界面(16)接触结合的两个由相同的光学非线性材料制成的晶体(12,14)。一个晶体(12)具有主晶体轴,其取向用于I...
具有均匀光束的准分子激光器制造技术
通过在线性准分子激光器(30)的每一端定位有多个谐振腔镜(32,34),准分子激光束横向模式中的精细结构被最小化。在一端,高反射端镜(32)和部分反射端镜(34)相对于彼此以小角度倾斜。在另一端,两个输出耦合镜(36,38)相对于彼此以...
用于形成具有较亮边缘或较暗边缘的均匀强度分布的设备制造技术
用于将激光辐射束转换成具有较亮或较暗边缘的平顶强度分布的光束均化器(30),包括第一透镜阵列(32)、第二透镜阵列(14)和正透镜(16)。第一透镜阵列(32)包括由没有光焦度的间隙(34)隔开的多个透镜元件(20)。通过选择小于或大于...
通过晶体移动来控制激光束参数制造技术
本公开提供有利地稳定光束参数和延长晶体寿命的方法和设备。在一方面,UV激光设备(100)包括非线性晶体(104)、激光源(102)、光束晶体置换器(106)、光束参数监控器(108)和激光控制单元(110)。激光源(102)将源光束(1...
用于准分子激光硅结晶的能量控制器制造技术
准分子激光退火设备(40)包括准分子激光器(42),该准分子激光器将激光辐射脉冲传送到支撑在基板上的硅层(58),该基板相对于激光脉冲平移,使得连续的脉冲在基板上重叠。监控每个激光辐射脉冲的能量,并将其发送到控制电子设备(48),然后通...
激光加工脆性材料的可控分离制造技术
公开一种用于从由脆性材料制成的工件(12)切割和分离物品(102)的方法。该方法使用直形和圆形脱模特征(112A,112B),其布置成在物品(102)轮廓中靠近每个内部曲线的废料(104)中引起受控的开裂。第一脉冲激光束(14)沿着物品...
偏振控制的激光线投射器制造技术
在激光线投射设备(10)中,六个间隔开的非偏振激光束通过薄膜偏振器(14)、反射器(18)和两个偏振旋转器(20A,20B)组合而低损耗地平面偏振化。两个光束在三个偏振取向中的每一个偏振。两个偏振取向在P和S取向彼此正交对齐。其他偏振取...
带模式跟踪的光学泵浦半导体激光器制造技术
腔内加倍OPS激光器具有用于粗略波长选择的包括双折射滤波器(BRF)的激光器‑谐振器,以及布置成用于II型倍频和精细波长选择的光学非线性(ONL)晶体。激光器辐射以取决于谐振器长度的一系列基本波长中的一个在所述激光器‑谐振器中循环。ON...
用于控制准分子激光退火的监测方法和装置制造方法及图纸
公开了一种对通过用准分子激光脉冲进行辐射而结晶的硅层(22)进行评价的方法。所述结晶根据层所暴露的脉冲的数量和脉冲中的能量密度ED而在结晶层上产生周期性特征。使用光(29)照明层的区域。由于周期性特征而从照明区衍射的光形成照明区域的显微...
用于受激准分子激光退火工艺的监控方法和设备技术
公开了一种方法,用于评估利用形成受激准分子激光的脉冲的辐射而结晶的硅层。结晶在结晶层上根据该层所暴露的脉冲中的数量和能量密度产生周期性特征。光对层的区域进行照明。检测器被布置成检测从照明区域衍射的光并且根据衍射光确定该层所暴露的脉冲中的...
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