偏振控制的激光线投射器制造技术

在激光线投射设备(10)中，六个间隔开的非偏振激光束通过薄膜偏振器(14)、反射器(18)和两个偏振旋转器(20A,20B)组合而低损耗地平面偏振化。两个光束在三个偏振取向中的每一个偏振。两个偏振取向在P和S取向彼此正交对齐。其他偏振取向在中间取向非正交对齐。光束被强度均匀化并投射到辐射线中。辐射线上的任何点由这样的光线形成，其具有通过中间取向从S到P并且通过中间取向回到S的偏振取向的角分布。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏振控制的激光线投射器本申请要求2015年3月4日提交的美国临时申请序列号62/128,139的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本专利技术通常涉及非晶硅涂层板的激光退火。本专利技术特别涉及使用从一个或多个准分子激光束投射的辐射线激光退火这种面板。
技术介绍
准分子雷射退火(ELA)是制造高品质显示面板中薄膜晶体管(TFT)背板的制备工艺。通常，ELA涉及用从准分子激光束投射的辐射线照射涂覆有非晶硅的面板。准分子激光辐射将非晶硅变为多晶硅。TFT的电性能利用当非晶硅变成多晶硅时产生的改性微结构。多晶硅微晶的布置对于特定的TFT电路设计可是重要的。通常，微晶布置在迭代准分子激光照射后遵循高度的顺序。已经发现激光辐射的角分布和偏振可以影响微晶布置。准分子激光线投射装置在现有技术中被广泛描述。作为示例，这种装置描述于美国专利No.7,428,039和美国专利No.8,937,770。美国专利No.7,408,714详细描述了用于增加这种设备中照射功率的光束的光学组合。美国专利No.8,238,400详细描述了来自光束组合激光器的脉冲光束的同步。所有上述专利转让给本专利技术的受让人，所有本文档来自技高网...

【技术保护点】
光学设备，包括：多个偏振器，布置为接收相应的多个激光束并平面‑偏振所述激光束；偏振器，被构造为使得所述激光束的至少两个使用不同偏振取向平面‑偏振；和多个光学元件，被构造和布置为将平面‑偏振的激光束以激光辐射线投射在工件上，激光束中每个的光线以不同的角度入射到线上的任何点上，其中光线的偏振取向以预定方式随入射角变化。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.04 US 62/128,139;2016.01.20 US 15/001,5441.光学设备，包括：多个偏振器，布置为接收相应的多个激光束并平面-偏振所述激光束；偏振器，被构造为使得所述激光束的至少两个使用不同偏振取向平面-偏振；和多个光学元件，被构造和布置为将平面-偏振的激光束以激光辐射线投射在工件上，激光束中每个的光线以不同的角度入射到线上的任何点上，其中光线的偏振取向以预定方式随入射角变化。2.权利要求1所述的设备，其中所述激光束具有横向长轴和横向短轴，并且所述光束和所述偏振器沿着所述激光束的长轴方向对齐。3.权利要求2所述的设备，其中有六个激光束和六个偏振器，其中所述偏振器的最外面两个布置为以第一偏振取向平面-偏振对应的激光束；所述偏振器的最里面两个布置为以和所述第一偏振取向成90度的第二偏振取向平面-偏振对应的激光束；和剩余两个偏振器布置为以与所述第一和第二偏振取向成非正交角的第三偏振取向平面-偏振对应的激光束。4.权利要求3所述的设备，其中所述第三偏振取向与所述第一和第二取向成45-度。5.权利要求3所述的设备，其中在最高和最低入射角处入射的投射的辐射线光线上的任何点分别以所述第一和第二偏振取向平面-偏振，并且入射角的角度在最高和最低入射中间的光线以第三偏振取向平面-偏振。6.权利要求1所述的设备，其中每个偏振器均包括：偏振选择性分光镜，布置为将对应的激光束分成传输的第一部分和反射的第二部分，其中所述第一和第二部分分别以彼此成90度的第一和第二偏振取向来平面-偏振；反射器，引导所述光束的第二部分平行于光束的第一部分；和第一和第二偏振旋转器，分别在所述光束的第一和第二部分的路径中，并且布置为使用共同偏振取向传输所述光束的第一和第二部分。7.权利要求6所述的设备，其中所述共同偏振取向是所述第一偏振取向、所述第二偏振取向以及与所述第一和第二偏振取向成非正交角的第三偏振取向中的一种。8.将多个激光束投射在工件上的线焦点中的设备，包括：用于接收所述激光束的一组偏振光学件；和透镜系统，用于接收偏振束并布置为沿着所述工件上的线焦点投射光束，所述偏振光学件和透镜系统布置为使得在沿线焦点的每个位置，具有最低入射角的光线具有第一偏振，并且具有最高入射角的光线具有与第一偏振正交的第二偏振，以及具有中间入射角的光线具有中间偏振态。9.权利要求8所述的设备，其中所述偏振...

【专利技术属性】
技术研发人员：F·西蒙，T·温策尔，L·施文格斯，P·范·德·维尔特，
申请(专利权)人：相干激光系统有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE