本发明公开了一种减少刻蚀机内部沉积的装置和方法，包括刻蚀机本体，还包括：气旋屏蔽环，其内侧圆周上均匀开有若干个微型斜孔，从微型斜孔内排出的气体经过刻蚀机本体腔室内壁；自旋气路分配器，可绕气旋屏蔽环中心轴线进行低速旋转，其内部有一个空腔，...

本发明公开了一种半导体刻蚀工艺用自适应动态节流阀装置，集成电子控制单元模块通过内部线束与集成电子控制单元模块通信连接，集成传感器模块同步采集并深度融合压力、流量、温度、阀位、驱动电流、阀体振动信号，主控制器根据这些信号建立了一个关键参数...