本发明公开了一种新型晶圆的双面刷洗装置，包括：旋转盘，其用于带动晶圆旋转，所述旋转盘上设有多个用于支撑所述晶圆边角的支撑组件；刷洗组件，其包括上刷洗臂和下刷洗臂，所述晶圆位于所述上刷洗臂和所述下刷洗臂之间；喷嘴组件，其至少为两个，分别设...

本发明公开了一种晶圆定位设备及定位方法，所述定位设备包括：基座；旋转盘，其用于带动所述晶圆转动以将晶圆的缺口转动至预设位置，所述旋转盘位于所述基座上；对中机构，其包括相对设置的第一对中机构和第二对中机构，所述第一对中机构和所述第二对中机...

本发明公开了一种晶圆刷洗装置、设备及刷洗方法，所述晶圆刷洗装置包括旋转盘，其能够带动晶圆升降和转动；卡盘机构，其用于夹持晶圆，所述卡盘机构包括相对设置的第一卡盘机构和第二卡盘机构，所述第一卡盘机构和所述第二卡盘机构能够相互靠近或远离；双...