瓦伊系统有限公司专利技术

瓦伊系统有限公司共有4项专利

  • 表面形状的测量方法以及测量装置
    提供一种在通过蒸镀法形成半导体层时,通过测量半导体层的表面的形状,能够进行上述表面的形状的矫正等的表面形状的测量方法以及测量装置。通过可动式的反射镜反射单一的激光,生成分离为实质上3条的激光入射光(Ld1、Ld2、Ld3),向在腔室(2...
  • 提供一种在对半导体层进行蒸镀而成膜时,能够直接高精度地得知半导体层的温度的测定装置以及测定方法。对半导体层照射在第1温度范围(T3-T4)内光的透射率衰减的第1波长的激光、和在第2温度范围(T5-T6)内光的透射率衰减的第2波长的激光,...
  • 本发明提供能够测定半导体等材料内的载流子寿命的载流子寿命的测定方法以及测定装置。针对由发光激光器发出的连续光通过激励侧的调制装置进行调制,生成其强度矩形波状地变化的激励光(14)并提供给半导体材料。针对半导体内的载流子被激励而通过再结合...
  • 提供一种温度测定方法和温度测定装置,能够在蒸镀形成半导体层时直接且高精度地了解半导体层的温度。使用在成膜中或成膜后的半导体层达到温度Ts时光透射率急剧变化的波长λs的激光,通过光检测装置监测该激光对于半导体层的透射量。如果使提供给半导体...
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