ULM光子学有限公司专利技术

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  • 一种有高传导载流子隧穿电流窗孔的光电子装置。该装置包括位于中央的电流窗孔,由以第一种掺杂物掺杂的III-IV-V半导体复合物制成的量子层形成。该电流窗孔在横向上受III-IV-V半导体复合物的氧化物限制。相邻层也由第一种掺杂物掺杂的II...
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