公开了一种用于改善晶圆上结构的可印制性的相移光掩模和方法。该方法包括提供一种包括形成于基片上表面的０度ＰＳＷ与形成于上述基片的第一区域内的１８０度ＰＳＷ的光掩模。在上述０度ＰＳＷ和１８０度ＰＳＷ之间的第二区域内形成正交ＰＳＷ，该ＰＳＷ可...