本发明涉及用于RF放大器装置的变换模块（1）、包括这样的变换模块的RF放大器装置以及用于加速粒子、包括至少一个这样的RF放大器装置的装置，用于将第一变换模块端子（2a）处的第一输入阻抗变换为第二变换模块端子（2b）处的第二输入阻抗。变换...

本发明涉及用于冷却待冷却单元、特别是电子单元、优选是半导体组件的散热器。该散热器具有冷却通道，冷却剂、特别是冷却液、优选是冷却水可以沿指定的流动方向流动通过冷却通道，所述冷却通道在面向待冷却单元的冷却通道面上具有第一冷却壁。冷却通道或冷...

提出了用于工业处理组件（1）、优选是等离子体处理组件或加热组件的电力转换器（4），该电力转换器包括：‑ 散热器（5，85）；以及‑ 待冷却单元（10），该待冷却单元特别是电气单元、优选是半导体组件，优选地包括功率半导体部件，其中，待冷却...

本发明涉及散热器，该散热器用于冷却待冷却单元、特别是电子单元、优选是半导体组件。散热器具有冷却通道和第一冷却壁，该第一冷却壁布置在面向待冷却单元的冷却通道面上。散热器附加地包括冷却剂供给部和冷却剂排出部，冷却剂供给部和冷却剂排出部两者与...

变换系统（10）用于将等离子体处理控制系统（2）连接至阻抗匹配电路A（9），其中，阻抗匹配电路A（9）可连接至RF发生器（3）和等离子体室（5）。设置有第一变换装置（10a）和通信装置（14），其中，通信装置（14）可连接至等离子体处理...

本发明涉及特别地用于脉冲等离子体处理的等离子体处理供应系统（100），该等离子体处理供应系统包括：具有至少一个放大器电路（30）的RF发生器（2）、阻抗匹配电路（3）和控制装置（1）。等离子体处理供应系统（100）可以连接至等离子体室（...

本发明涉及电源组件（1），该电源组件具有：a）多个微波电源（2a，2b，2c，2d，……2n），多个微波电源中的每个微波电源被设计成生成具有输出≥100 W和≥频率300 MHz的微波功率信号，以在等离子体处理室（6）中产生等离子体（7...

本发明涉及一种用于控制等离子体工艺供应系统（100）的控制装置（1）。该等离子体工艺供应系统包括RF发生器（101）和用于连接负载（103）的阻抗匹配电路（101）。控制装置（1）被设计成确定RF发生器（101）的供应功率和阻抗匹配电路...

本发明涉及用于耦合RF信号的功率合成器（1），该功率合成器特别地被设计成用于等离子体处理供应系统和等离子处理系统，该功率合成器（1）被设计成用于频率在2 MHz至200 MHz的范围内特别地在10 MHz至50 MHz的范围内的预定义的...

本发明涉及用于耦合RF信号的RF功率放大器单元（10），该RF功率放大器单元特别地用于等离子体处理馈电系统，所述单元包括：a）第一RF功率放大器级装置（AU1），b）第二RF功率放大器级装置（AU2），c）第一传输线装置（TL1）和第二...

本发明涉及微波辅助处理设备（10），具有：变形设备（8），其被设计成改变具有一种或更多种硬质材料成分的物体（7）的形状，特别是将该物体分割；以及微波加热装置（1），其被设计成通过微波技术加热物体，该微波加热装置具有：‑ 多个微波天线（2...

本发明涉及一种用于等离子体处理供应系统的阻抗匹配电路(1)，包括：a)用于固定的预设阻抗变换的第一阻抗匹配单元(6)，b)用于可调阻抗变换的第二阻抗匹配单元(7)，该第二阻抗匹配单元包括：i)一个或更多个电抗器(C3)以及ii)用于变换...

本发明涉及用于阻抗匹配电路、等离子体工艺供应系统和等离子体工艺系统的阻抗匹配模块，该阻抗匹配模块用于功率≥500W以及在从2MHz至100MHz的范围内的频率，该阻抗匹配模块具有：a)绝缘电路板(3)，b)平面导体轨道(2)，其布置在绝...

阻抗匹配电路(1)包括串联连接的三个阻抗匹配单元(6，7，8)。第二阻抗匹配单元(7)包括至少一个半导体开关元件(12)，利用该至少一个半导体开关元件可以在操作期间改变变换比。针对预定目标输入阻抗选择被施加在第二阻抗匹配单元(7)的输入...

本发明涉及用于阻抗匹配电路(11)、等离子体处理供应系统(8)以及等离子体处理系统(9)的阻抗匹配模块(1)，该阻抗匹配模块用于组装在冷却体(7)上，被设计用于≥500W的功率和在从2MHz到100MHz的范围内的频率，该阻抗匹配模块(...

本发明涉及用于等离子体处理供应系统和等离子体处理系统的阻抗匹配电路(1)，该阻抗匹配电路被设计用于≥500W的功率和在2MHz至100MHz的范围内的频率，其包括：a)匹配单元(2，2a至2f)，该匹配单元具有一个或更多个电抗(C4a，...

本发明涉及用于等离子体工艺系统(10)的低阻抗大电流同轴线(1)，该低阻抗大电流同轴线具有：a)管状导热电绝缘体(2)，其例如由陶瓷制成，b)电外导体(3)，其以外层形式布置在绝缘体上，以及c)电内导体(4)，其以内层形式布置在绝缘体中...

本发明涉及一种用于针对等离子工艺流供应系统(10)限制质量并维持带宽的连接组件(1)，该连接组件具有：a)第一内导体(2)，该第一内导体被设计成借助于第一直流电源(5)提供第一直流电压；b)第二内导体(4)，该第二内导体被设计成借助于第...