本发明提供一种板材镀膜支撑装置，包括镀膜仓，镀膜仓顶板具有自转架，镀膜仓底部具有靶材架，还包括基片支撑框，基片支撑框的顶部与自转架连接，镀膜仓内壁位于其中部的位置上具有支撑环台，支撑环台上具有两组支撑滑动单元，支撑滑动单元包括支撑块，支...

本发明提供一种靶材流向引导装置，包括加热底板和导向顶板，加热底板内具有加热电阻，加热底板的中心具有十字隔离板，十字隔离板的顶部具有盖板，加热底板上具有绕其轴线均布的多个分隔板，分隔板的一端朝向十字隔离板方向延伸，另一端朝向加热底板的边缘...

本实用新型提供一种用于小型零件镀膜的工件架，包括主架板和多个主工件筐，主架板的两侧面均具有间隔设置的多个插槽，每个插槽对应一个主工件筐，主工件筐上具有与插槽适配的插板，插板能与插槽插接，主工件筐的底部具有金属丝网，主架板的上部具有连接柱...

本实用新型提供一种高效真空镀膜装置，包括真空镀膜仓，真空镀膜仓内的底部具有环形滑槽，环形滑槽的底部具有导电金属片，导电金属片与外部电源电连接，真空镀膜仓内具有转盘，转盘的中心具有转轴，转轴与电机连接，转盘上表面靠近其边缘处均布多个干锅放...

本实用新型提供一种用于大型板材镀膜的工件架，包括镀膜仓，镀膜仓顶板具有自转架，镀膜仓底部具有靶材架，还包括基片支撑框，基片支撑框的顶部与自转架连接，镀膜仓内壁位于其中部的位置上具有支撑环台，支撑环台上具有两组支撑滑动单元，支撑滑动单元包...

本实用新型提供一种新型真空镀膜装置，包括真空镀膜仓，真空镀膜仓内具有干锅放置架，真空镀膜仓内的底面上具有水平方向延伸的滑槽，滑槽的底部铺设导电金属片；真空镀膜仓底部紧靠滑槽一侧处均布多个齿槽，齿槽沿滑槽的延伸方向间隔排部，干锅放置架的底...

本实用新型提供一种真空镀膜靶材离子流导向装置，包括加热底板和导向顶板，加热底板内具有加热电阻，加热底板的中心具有十字隔离板，十字隔离板的顶部具有盖板，加热底板上具有绕其轴线均布的多个分隔板，分隔板的一端朝向十字隔离板方向延伸，另一端朝向...

本实用新型提供一种真空镀膜设备用抽真空装置，包括真空镀膜仓，还包括两个U型接管和真空接管，真空镀膜仓的内壁对称分布四个抽气口，U型接管的两端分别与一个抽气口贯通，真空接管的两端分别与U型接管的中部贯通，真空接管的中部具有抽气接头。本实用...

本实用新型提供一种真空镀膜机冷却装置，包括真空镀膜仓，真空镀膜仓的两侧均具有冷却单元，冷却单元包括多个间隔设置的外部管壳和多个间隔设置的内部管壳，外部管壳位于真空镀膜仓的外侧壁上，内部管壳位于真空镀膜仓的内侧壁上，外部管壳和内部管壳交错...