本发明涉及一种基片磁控溅射镀膜生产设备，包括机架、预真空单元和磁控溅射工艺单元；预真空单元和磁控溅射工艺单元集成安装于机架上；预真空单元包括预真空腔体、基片承载单元、基片传输机构，在预真空腔体靠近磁控溅射工艺单元的一侧设置有基片进出口；...

本发明涉及一种基片磁控溅射镀膜生产设备，包括机架、预真空单元、传输单元、预处理单元、磁控溅射工艺单元；四个单元集成安装于机架上；预真空单元、预处理单元和磁控溅射工艺单元置于传输单元外部三个方位；传输单元通过三个基片出入口分别与预真空单元...