本发明公开一种流体处理系统，包括：流体处理腔室，包括流体入口、流体出口和流体处理区域；细长辐射源组件，包括被配置为设置在流体处理区域中的细长辐射源；以及灯座元件，固定到所述流体处理腔室的近端侧部分，所述灯座元件配置为仅当所述流体处理腔室...

公开了一种用于流体处理系统中的辐射源组件的清洁装置。该清洁系统包括：清洁托架，其包括与辐射源组件的外部的至少部分接触的至少一个清洁元件；无杆缸，其包括具有纵向轴线的伸长外壳；置于伸长外壳外表面上的可滑动元件，该可滑动元件(i)连接到清洁...

描述一种用于辐射源的清洁系统。清洁系统包括：(i)清洁室壳体；(ii)可移除地布置在清洁室壳体内的清洁筒；以及(iii)可移除地联接到清洁室壳体的端盖元件。清洁筒包括第一密封元件和第二密封元件，第一密封元件和第二密封元件能够相对于辐射源...

一种流体流量调节器装置包括：用于接收流体流量的入口部分；用于输出流体流量的出口部分；和设置在入口部分和出口部分之间的流量调节器部分，流量调节器部分包括外部和内孔部，外部包括对流体流量的封闭截面，内孔部能够使得入口部分中接收的流体流量的至...

本发明描述了一种具有与水性液体接触的可浸没部分的元件，该可浸没部分包含与该水性液体接触的接触面，该接触面配置有强酸性。本发明还涉及包含该元件的辐射（如紫外辐射）源组件、辐射（如紫外辐射）源模块和流体（如水）处理系统。本发明适用于任何与易...

描述了一种用于在流体处理系统中使用的辐射源模块。所述辐射源模块包括：壳体，所述壳体具有入口、出口和设置在其间的流体处理区。所述流体处理区包括由底板表面相互连接的第一壁表面和第二壁表面。所述第一壁表面、所述第二壁表面和所述底板表面配置为接...