本申请公开了一种切割装置及切割方法，切割装置包括用于固定待切割件的定位模块以及用于切割所述待切割件以获得测试试样的切割模块，所述定位模块包括：第一模具；第二模具，与所述第一模具相对间隔设置，所述待切割件设置于所述第一模具和所述第二模具之...

本发明提供一种聚合物、聚合物的制备方法及背光模组，聚合物由白油与苯酚类衍生物发生交联反应而得到，且聚合物的结构式中包括R1基团，R1基团可与

本发明提供一种掩膜版，所述掩膜版包括：衬底；遮光区，其形成于所述衬底上以遮蔽预定波段的辐射光；完全透射区，其形成于所述衬底上以完全透射所述辐射光；以及两个以上的半透射区，其形成于所述衬底上以透射部分所述辐射光；其中，所述每个半透射区各自...

本申请公开了一种示屏画面检测方法、显示屏画面检测系统，采用SSIM为基础，结合中值滤波以及高斯模糊等图像处理算法减少摩尔纹干扰，同时通过控制模块控制显示屏和处理模块接收同步的开机信号，实现显示画面的实时检测与检测周期同步，从而解决进行开...

本申请公开了一种用于发光面板异常检测的检测装置及检测方法、显示装置，检测装置包括第一基板、设置于第一基板上的检测金属层、以及检查单元；检测金属层包括多个相间隔的电极块，检测单元与电极块连接，以用于检测每个电极块发送的电容信号。若发光面板...

本申请公开了一种静电去除装置、蒸镀装置及静电去除方法，该静电去除装置包括：升降架，包括底板，及设置在底板上表面且相互间隔的多个基板分离件，多个基板分离件围合形成有多个间隔设置的悬空区域，多个悬空区域之间形成有间隔区域；电极组件，包括支撑...

本申请公开了一种X射线传感器的制备,包括：提供衬底基板；在衬底基板上制备第一有源层和第二有源层；在第一有源层上方制备第一源漏极，在第二有源层上方制备第二源漏极，第一源漏极的漏级和第二源漏极的源级连接，第一源漏极和第一有源层形成欧姆接触，...

本申请公开了一种驱动电路、显示装置及其控制方法。驱动电路连接至IIC总线上，其包括时序从动控制器以及总线控制开关；当所述系统芯片在调试模式时，所述系统芯片发出一调试信号至所述时序主动控制器，所述时序主动控制器发出一同步信号至所述时序从动...

本申请实施例提供一种背光模组，所述背光模组包括基板以及设置在所述基板上的发光芯片和反射层；其中，所述反射层具有镂空区，所述发光芯片在所述镂空区与所述基板电连接，所述镂空区的边缘在所述基板上的投影至少部分位于所述发光芯片在所述基板上的投影...

本申请公开了一种显示面板以及显示面板的制作方法，所述显示面板包括：第一金属层，所述第一金属层包括至少一条第一金属线；绝缘层，所述绝缘层覆盖在所述第一金属层上；以及第二金属层，所述第二金属层覆盖在所述绝缘层上，所述第二金属层包括与所述第一...

本发明实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，所述阵列基板包括感光晶体管和开关晶体管，感光晶体管的有源层包括第一光敏有源层，开关晶体管的有源层包括第二光敏有源层，第二光敏有源层的厚度小于第一光敏有源层的厚度；或，感光晶体管的有源...

本申请实施例提供一种mura补偿方法、显示面板以及显示装置，所述mura补偿方法包括：获取显示面板的多个子像素在多个视角下的mura补偿数据，所述mura补偿数据包括多个侧视角下的第一补偿数据以及正视角下的第二补偿数据；根据多个所述侧视...

本发明提出一种背光控制方法、背光控制系统及存储介质，本发明背光控制方法能够在相同背光刷新率和背光灰阶前提下通过减小固定比特灰阶的等分子场的数量，进而增加每一等分子场的时间，进而栅极线开启的时间也可以相应增加，可解决负载延迟(RC loa...

本申请提供的像素驱动电路包括第一晶体管、第二晶体管、第三晶体管、第四晶体管、第五晶体管、第六晶体管、电容以及发光器件。在该像素驱动电路中，由于对第一晶体管进行阈值电压补偿动作，可以有效改善驱动晶体管的阈值电压偏移引起的发光器件的电流衰减...

本申请披露了一种显示装置，所述显示装置通过倒置电源信号走线的电源接入端的位置，由靠近印刷电路板一侧的电源接入端的位置改为远离印刷电路板一侧的电源接入端的位置，以使显示基板上的相邻两行的发光器件的端电压之间的差值小于目标差值，电流差值也相...

本申请公开了一种用于透明显示的迷你发光二极管显示面板及拼接屏。所述显示面板包括阵列基板、设置于所述阵列基板上的多个像素单元；所述阵列基板包括玻璃衬底、设置于所述玻璃衬底上的多个驱动控制单元和金属走线；每一所述驱动控制单元与每一所述像素单...

一种拼接显示面板及其驱动方法、拼接显示装置，所述拼接显示面板包括：至少两发光基板，每两相邻的所述发光基板之间具有间隙；至少一发光部，每一所述发光部对应于相应的所述间隙；通过在相邻的两个所述发光基板之间设置所述发光部，减小了相邻的两个所述...

本发明提供一种挡板装置和曝光机，所述曝光机包括位于所述挡板装置上方的掩模版，所述挡板装置包括多个挡板装置，所述多个挡板装置围成位于所述掩模版下方的透光区，所述挡板装置上具有高度调整机构。所述挡板装置根据要形成的遮光区域在水平方向移动，由...

本申请实施例公开了一种阵列基板及显示面板，阵列基板包括第一基底以及依次设置于第一基底的第一金属层、第二金属层、第一屏蔽线和像素电极层，第一金属层包括多条沿第一方向设置的扫描线；第二金属层包括与所有扫描线电连接的信号传输线；信号传输线包括...

本申请实施例公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，显示面板包括：彩膜基板、阵列基板和光敏器件，阵列基板包括第一衬底基板以及设置于第一衬底基板的阵列层，阵列层包括不透明的第一金属层；光敏器件包括光感传感器，光感传感器包括第一栅极、第一...