本发明公开了一种半导体材料化学镀膜设备，包括治具，其内部设有用以容置待镀膜的半导体材料的腔体；固定支架，用以固定治具；还包括转动装置，与治具连接，用以带动治具转动；输入组件，其包括若干根同时与治具第一端入口连通的进液管道，且每一根进液管...

本发明公开了一种半导体晶圆超声波清洗工艺，用于晶圆片研磨后的清洗，该工艺包括半导体晶圆超声波清洗设备，该设备内部包括依次设置的上料水槽