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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体材料镀膜,具体涉及一种半导体材料化学镀膜设备。
技术介绍
1、在半导体材料化学镀膜过程中,需要将将半导体材料浸泡在各种不同的溶液中进行反应,用化学反应的方法在光学零件表面产生或沉积光学薄膜;因此,半导体材料需要放置于容器中,然后向容器内依次通入不同类型的溶液,在此过程中,当需要通入下一种溶液时,需要先将上一种溶液从容器内排出,针对如此范围的工艺步骤,现阶段,还没有专门针对于半导体材料化学镀膜的自动化设备,所以整个镀膜过程工作效率低,镀膜效果差。
2、应该注意,上面对技术背景的介绍只是为了方便对本专利技术的技术方案进行清楚、完整的说明,并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本专利技术的
技术介绍
部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。
技术实现思路
1、为克服上述缺点,本专利技术的目的在于提供一种半导体材料化学镀膜设备,从而有效地解决上述技术问题。
2、为了达到以上目的,本专利技术采用的技术方案是:一种半导体材料化学镀膜设备,包括设备本体,所述设备本体包括:
3、治具,其内部设有用以容置待镀膜的半导体材料的腔体;
4、旋转支撑组件,
5、其包括固定支架,用以固定治具;
6、还包括转动装置,与治具连接,用以带动治具转动;
7、输入组件,
8、其包括若干根同时与治具第一端入口连通的进液管道,且每一根进液管道分别连通不同类型的储液箱;
...【技术保护点】
1.一种半导体材料化学镀膜设备,包括设备本体,其特征在于:所述设备本体包括:
2.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述治具(1)为圆筒形状,内部为空心容置腔,所述治具(1)的入口和出口分别开设在圆筒治具(1)的顶部和底部。
3.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述固定支架(2.1)上设置有定位块,所述定位块上开设有圆弧形卡槽(2.2),且所述定位块上设置有与所述卡槽相对应的锁扣(2.3)。
4.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述转动装置(2.4)包括第一驱动电机(2.4.1)、第一主动齿轮(2.4.2)以及第一从动齿轮(2.4.3),其中:
5.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述治具(1)的两个端口处都设置有管道切换装置(2.5),所述管道切换装置(2.5)用以切换不同的管道分别与治具(1)的端口处接通。
6.根据权利要求5所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述管道切换装置(2.5)包括转动盘(2.5.1)、连接头
7.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述废液箱(4.3)包括可回收废液箱(4.3)和不可回收废液箱(4.3),所述可回收废液箱(4.3)设置有若干个,所述不可回收废液箱(4.3)设置有一个。
8.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述设备本体还包括补液组件(5),所述补液组件(5)包括若干根分别与对应储液箱(3.2)连通的补液管道(5.1)。
9.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述进气管道(3.3)设置有若干根分支管道,通过所有的分支管道使所述进气管道(3.3)与所有的储液箱(3.2)、废液箱(4.3)均连通。
10.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述进液管道(3.1)和所述出液管道(4.1)上都设置有控制阀和输送泵。
...【技术特征摘要】
1.一种半导体材料化学镀膜设备,包括设备本体,其特征在于:所述设备本体包括:
2.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述治具(1)为圆筒形状,内部为空心容置腔,所述治具(1)的入口和出口分别开设在圆筒治具(1)的顶部和底部。
3.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述固定支架(2.1)上设置有定位块,所述定位块上开设有圆弧形卡槽(2.2),且所述定位块上设置有与所述卡槽相对应的锁扣(2.3)。
4.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述转动装置(2.4)包括第一驱动电机(2.4.1)、第一主动齿轮(2.4.2)以及第一从动齿轮(2.4.3),其中:
5.根据权利要求1所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述治具(1)的两个端口处都设置有管道切换装置(2.5),所述管道切换装置(2.5)用以切换不同的管道分别与治具(1)的端口处接通。
6.根据权利要求5所述的半导体材料化学镀膜设备,其特征在于:所述管道切换装置(2.5)...
【专利技术属性】
技术研发人员:邢子扬,蒋春华,任国才,
申请(专利权)人:苏州市富一达智能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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