本发明提供利用扫描能够高效率地对较宽面积的基板进行处理的喷嘴及基板处理装置。复合喷嘴（1）具备复合加速喷嘴部（10），该复合加速喷嘴部（10）具备多个加速喷嘴（100），该加速喷嘴并列地配置，加速喷嘴（100）具有第一气体导入孔（101...

本发明提供一种对象物清洗方法及对象物清洗系统，该方法是通过照射含有气体和液滴的混相流体来对对象物进行清洗的方法，其特征在于，通过对所述混相流体中的所述液滴碰撞所述对象物时能够产生的液滴碰撞时气蚀的程度进行控制，得到所期望的冲击力。