本发明涉及半导体新材料领域，尤其涉及一种半导体新材料制备用抛光台。本发明要解决的技术问题是提供一种能够避免抛光液在抛光过程中飞溅，同时可检查晶片抛光完整性减少残次品的半导体新材料制备用抛光台。一种半导体新材料制备用抛光台，包括有支撑脚、...

本发明公开了一种硅片表面基化处理方法，其包括处理以下方式，表面羟基化、表面氨基化、表面羧基化、表面甲基化和表面醛基化，本发明具有以下有益效果，合理选取进行反应处理的溶液，以减少反应的步骤，达到了简便处理流程的有益效果；对处理的溶液采用合...

本发明公开了一种半导体制备用粉尘洁净设备，其结构包括撑座、洁净仓、仓口、帘布、观察窗、支脚、台持机构、位移组件、第一六轴机械臂、第二六轴机械臂、第一喷嘴、第二喷嘴、液灌机构、气灌机构、气净机构、照明灯、排气口、栅格和净台机构，本发明具有...

本发明涉及电子信息技术领域，尤其涉及一种电子信息技术集成电路生产用点胶机。本发明要解决的技术问题是提供一种能够控制点胶温度以适应不同点胶材料的电子信息技术集成电路生产用点胶机。一种电子信息技术集成电路生产用点胶机，包括有设备座、控制面板...

本发明公开了一种硅片光刻用防污输送设备，其结构干燥组件、清洗组件、输送装置、壳体、驱动组件、阻隔装置、控制器、电源线和底架，干燥组件右端与清洗组件固定连接，清洗组件内侧上部固接有输送装置；干燥组件左端固接有壳体，壳体底端与底架固定连接，...