本发明涉及研磨剂组合物以及使用研磨剂组合物的研磨方法。本发明提供一种研磨剂组合物，其能够实现研磨速度等镜面研磨加工的迅速化，并且提升镜面研磨后的半导体晶片的晶片表面的平滑性和平坦性，能够进行高加工精度的镜面精加工，并且保存稳定性优异。研...

本发明提供一种塑料透镜用研磨剂组合物，其含有氧化铝、水溶性高分子化合物和水，水溶性高分子化合物为在聚合物的主链上键合有恶唑啉基的含恶唑啉基的水溶性高分子化合物。

本发明的课题在于提供一种具有高研磨速度、能够作为氧化铈系研磨剂的代替来研磨氟磷酸盐玻璃的氟磷酸盐玻璃用研磨剂组合物。氟磷酸盐玻璃用研磨剂组合物含有二氧化硅、水溶性高分子化合物、酸和/或其盐以及水，pH(25℃)的值为1.0～9.0的范围...

本发明提供一种研磨剂组合物，其能够实现研磨速度等镜面研磨加工的迅速化，并且提升镜面研磨后的半导体晶片的晶片表面的平滑性和平坦性，能够进行高加工精度的镜面精加工，并且保存稳定性优异。研磨剂组合物是对包含III

本发明提供研磨剂组合物，其在氧化物单晶材料基板的研磨中，能够抑制研磨时的载体鸣音，并且实现研磨后的研磨表面的平坦性的提高和研磨速度的提高。一种研磨剂组合物，其用于对钽酸锂单晶材料或铌酸锂单晶材料进行研磨加工，上述研磨剂组合物含有二氧化硅...

本发明提供一种研磨剂组合物，其中，在氧化物单晶材料基板的研磨中，能够抑制研磨时的载体鸣音，并且实现研磨后的研磨表面的平坦性的提高和研磨速度的提高。一种研磨剂组合物，其用于对钽酸锂单晶材料或铌酸锂单晶材料进行研磨加工，上述研磨剂组合物含有...

本发明提供一种研磨剂组合物，其中，在氧化物单晶材料基板的研磨中，抑制研磨时的载体鸣音并且能够实现研磨后的研磨表面的平坦性的提高和研磨速度的提高。一种研磨剂组合物，其用于对钽酸锂单晶材料或铌酸锂单晶材料进行研磨加工，上述研磨剂组合物含有二...

本发明提供一种将氮化铝基板以高研磨速度精加工成良好的表面平滑性的氮化铝基板用研磨剂组合物。氮化铝基板用研磨剂组合物含有氧化铝粒子、脂肪族胺化合物、酸和/或其盐、以及水。另外，pH值(25℃)为7.5以上且小于11.5。